具有均匀磁场的成像系统技术方案

本发明专利技术公开了一种成像系统（１０），它包括具有磁孔（１８）的成像磁体１６。多个无源补偿件（２６）被定位在磁孔（１８）中。多个电阻性补偿件（４６）也被定位在磁孔（１８）中。多个温度计（２８）被热耦合到选定数量的多个无源补偿件（２６）并且读出无源补偿件温度（３６）。控制器（３２）与多个温度计（２８）和多个电阻性补偿件（４６）相连。所述控制器（３２）包括逻辑电路，能够响应每个温度计（２８）所接收到的无源补偿件的温度（３６）来调节送到所述多个电阻性补偿件（４２）中的每一个的控制电流（４０），以使磁场的均匀性得以维持。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁共振成像(MRI)系统，而且更特别地是涉及到在成像系统中无源补偿件温度范围上用于保持磁场均匀性的一种方法和系统。
技术介绍
为了改进得到的医学图象，磁共振成像(MRI)要经常依靠着均匀的磁场。为了获得所希望的均匀磁场，一般将作为无源补偿件(passive shim)的铁磁元件放入在成像磁体的孔中。通常，通过使用经常被作为电阻性补偿件(resistive shim)的通电的场校正线圈，来加入这些无源补偿件，以增加它们对磁场的影响。无源补偿件的位置必须小心选择以使它们在磁场上的影响可以产生更均匀的磁场。尽管无源补偿件已经成功地改善了磁场的均匀性，可是所知道的是，诸如铁件的许多无源补偿件受温度的影响。当成像系统处于工作状态时，无源补偿件可能经历温度上的变化。对于许多无源补偿件来说，这种在温度上的变化可能会影响到补偿件的磁性并且因此会影响到磁场。这不仅改变了孔内的磁场强度，并且使得磁场在无源补偿件温度变化时变得不均匀了。这种对于磁场均匀性的负面影响导致了图象质量的损失。一种减少铁等无源补偿件对磁场影响的方法就是减少所使用的铁等材料的数量。可当温度稳定时这种方法又会对铁或类本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像系统（１０）包括：　　　　包括磁孔（１８）的成像磁体（１６）；　　　　多个定位在所述磁孔（１８）中的无源补偿件（１２）；　　　　多个定位在所述磁孔（１８）中的电阻性补偿件（４２）；　　　　多个温度计（２８），与所述多个无源补偿件（１２）的一个或多个温度耦合，多个温度计（２８）中的每一个读出一个无源补偿件的温度（３６）；　　　　与所述多个温度计（２８）和所述多个电阻性补偿件（４２）相连的控制器（３２），所述控制器（３２）包括逻辑电路，能够响应每个温度计（２８）所接收到的无源补偿件的温度（３６）来调节送到所述多个电阻性补偿件（４２）中的每一个的控制电流（４０），以使磁场的均匀性得以维持。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：彼得菲南，罗里沃纳，威廉FB庞查德，皮奥特尔M斯塔里维茨，
申请(专利权)人：GE医药系统环球科技公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]