一种显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及显示装置技术领域，具体公开了一种显示面板及其制备方法，包括：划分为第一区域和第二区域的基板，第二区域的像素密度小于第一区域的像素密度；第一区域上设有第一像素定义层，第二区域上设有第二像素定义层，第二像素定义层的密度和高度与第一像素定义层的密度和高度不同；通过喷墨打印分别在第一区域和第二区域上制备第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和第一电子注入层，并且第二区域的各膜层厚度小于第二区域的各膜层厚度。本发明专利技术在同一显示基板上通过喷墨打印的方法打印出两种像素密度不同的区域，这种喷墨打印的方法精度高，适用于大面积柔性印刷制程，可以通过打印算法调试来改善成膜的均匀性。

A display panel and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示装置
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
随着近年来电子产品的飞速发展，其中手机成为了大众最为关注的电子产品。手机显示屏是消费者感应手机的窗口，对于手机来说，显示窗口的设计显得尤为重要。其中，全面屏是指屏占比接近100％的屏幕设计，在全面屏手机设计中，正面的屏占比已经接近100％，没有位置放置光学器件，比如摄像头、光敏器件等。因此为了将光学器件放在屏下，就需要光学器件正上方的屏体兼具较高的光透过率和较好的显示效果，这样才能实现真正的全面屏。现有的OLED面板是以蒸镀的方法制备一种具有两种不同像素密度的全面屏，然而这种方法需要双倍的掩模版，例如红绿蓝三色的发光层蒸镀需要六张掩模版，这大大提高了工艺制备的成本，从而制约了全面屏的发展。如何得到一种工艺成本更低的全面屏制备方法，将具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术的第一个目的在于提供一种显示面板，包括基板，所述基板分为第一区域和第二区域，所述第二区域的像素密度小于所述第一区域的像素密度；所述第一区域设有第一像素定义层，在所述第一区域上依次设有第一阳极、第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第一电子注入层、第一阴极和第一光取出层；所述第二区域设有第二像素定义层，在所述第二区域上依次设有第二阳极、第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、第二电子注入层、第二阴极和第二光取出层；所述第二像素定义层的密度小于所述第一像素定义层的密度，所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度，或者所述第二像素定义层的高度等于所述第一像素定义层的高度；所述第二阳极的厚度小于第一阳极的厚度，所述第二空穴注入层的厚度小于第一空穴注入层的厚度，所述第二空穴传输层的厚度小于第一空穴传输层的厚度，所述第二发光层的厚度小于第一发光层的厚度，所述第二电子传输层的厚度小于第一电子传输层的厚度，所述第二电子注入层的厚度小于第一电子注入层的厚度，所述第二阴极的厚度小于第一阴极的厚度，所述第二光取出层的厚度小于第一光取出层的厚度。进一步地，所述第一阳极的厚度为60~300nm；所述第一空穴注入层的厚度为20~30nm；所述第一空穴传输层的厚度为10~30nm；所述第一发光层的厚度为30~80nm；所述第一电子传输层的厚度为10~30nm；所述第一电子注入层的厚度为1~10nm；所述第一阴极的厚度为10~100nm；所述第一光取出层的厚度为40~100nm。进一步地，，所述第二区域的各膜层厚度分别为第一区域的各膜层厚度的50%~90%。相应的，本专利技术还提供一种显示面板制备方法，用以制备上述的显示面板，包括：提供一基板，将所述基板划分为第一区域和第二区域；在所述第一区域上制备第一像素定义层，在所述第二区域上制备第二像素定义层；在所述第一区域上依次制备第一阳极、第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第一电子注入层、第一阴极和第一光取出层；其中，所述第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和第一电子注入层采用喷墨打印方法制备而成；在所述第二区域上依次制备第二阳极、第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、第二电子注入层、第二阴极和第二光取出层；其中，所述第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层和第二电子注入层采用喷墨打印方法制备而成。进一步地，所述喷墨打印方法的过程为：将墨水通过喷墨打印机的喷头模组打入像素定义层构成的像素槽内，再对像素槽内的墨水进行真空干燥和烘烤成膜处理。进一步地，所述烘烤成膜处理的温度为100~250℃。进一步地，采用喷墨打印方法进行喷墨打印，依次打印第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和第一电子注入层；并且同时依次打印第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层和第二电子注入层；或者，采用喷墨打印方法进行喷墨打印，先依次打印第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和第一电子注入层，再依次打印第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层和第二电子注入层；或者，采用喷墨打印方法进行喷墨打印，先依次打印第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层和第二电子注入层，再依次打印第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和第一电子注入层。进一步地，所述第一阳极和第二阳极的材料为氧化铟锡、银、铝中的一种或多种，所述第一阳极和第二阳极采用溅射成膜工艺和黄光工艺制备而成。进一步地，所述第一阴极和第二阴极材料为氧化铟锡、银、镁中的一种或多种，所述第一阴极和第二阴极采用蒸镀工艺或者喷墨打印的方式制备而成。进一步地，所述第一光取出层和第二光取出层的材料为有机高分子材料，为三芳胺类、环状脲类、酰结构类、二苯并噻吩类、二苯并呋喃类、咔唑类中的一种或多种。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的显示面板制备方法，在同一显示基板上通过喷墨打印的方法打印出两种像素密度不同的区域，分别将红绿蓝三色的发光层材料依次打印到显示基板上，并干燥成膜，这种喷墨打印的方法精度高，适用于大面积柔性印刷制程，可以通过打印算法调试来改善成膜的均匀性，除此之外，还可以通过调节每次打印墨水的墨滴量以精确方便地控制不同区域的厚度，避免了大量高精度掩膜版的使用，节约了工艺成本，提高了工艺研发的灵活性和多样性，有利于全面屏技术的发展。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1是本专利技术的实施例显示面板示意图；图2是本专利技术的实施例第一区域结构示意图；图3是本专利技术的实施例第二区域结构示意图。附图标记：100-第一区域；101-第一像素定义层；102-第一阳极；103-第一空穴注入层；104-第一空穴传输层；105-第一发光层；106-第一电子传输层；107-第一电子注入层；108-第一阴极；109-第一光取出层；200-第二区域；201-第二像素定义层；202-第二阳极；203-第二空穴注入层；204-第二空穴传输层；205-第二发光层；206-第二电子传输层；207-第二电子注入层；208-第二阴极；209-第二光取出层；300-基板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板，所述基板分为第一区域和第二区域，所述第二区域的像素密度小于所述第一区域的像素密度；/n所述第一区域设有第一像素定义层，在所述第一区域上依次设有第一阳极、第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第一电子注入层、第一阴极和第一光取出层；/n所述第二区域设有第二像素定义层，在所述第二区域上依次设有第二阳极、第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、第二电子注入层、第二阴极和第二光取出层；/n所述第二像素定义层的密度小于所述第一像素定义层的密度，所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度，或者所述第二像素定义层的高度等于所述第一像素定义层的高度；/n所述第二阳极的厚度小于第一阳极的厚度，所述第二空穴注入层的厚度小于第一空穴注入层的厚度，所述第二空穴传输层的厚度小于第一空穴传输层的厚度，所述第二发光层的厚度小于第一发光层的厚度，所述第二电子传输层的厚度小于第一电子传输层的厚度，所述第二电子注入层的厚度小于第一电子注入层的厚度，所述第二阴极的厚度小于第一阴极的厚度，所述第二光取出层的厚度小于第一光取出层的厚度。/n...

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板，所述基板分为第一区域和第二区域，所述第二区域的像素密度小于所述第一区域的像素密度；
所述第一区域设有第一像素定义层，在所述第一区域上依次设有第一阳极、第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第一电子注入层、第一阴极和第一光取出层；
所述第二区域设有第二像素定义层，在所述第二区域上依次设有第二阳极、第二空穴注入层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、第二电子注入层、第二阴极和第二光取出层；
所述第二像素定义层的密度小于所述第一像素定义层的密度，所述第二像素定义层的高度小于所述第一像素定义层的高度，或者所述第二像素定义层的高度等于所述第一像素定义层的高度；
所述第二阳极的厚度小于第一阳极的厚度，所述第二空穴注入层的厚度小于第一空穴注入层的厚度，所述第二空穴传输层的厚度小于第一空穴传输层的厚度，所述第二发光层的厚度小于第一发光层的厚度，所述第二电子传输层的厚度小于第一电子传输层的厚度，所述第二电子注入层的厚度小于第一电子注入层的厚度，所述第二阴极的厚度小于第一阴极的厚度，所述第二光取出层的厚度小于第一光取出层的厚度。


2.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述第一阳极的厚度为60~300nm；所述第一空穴注入层的厚度为20~30nm；所述第一空穴传输层的厚度为10~30nm；所述第一发光层的厚度为30~80nm；所述第一电子传输层的厚度为10~30nm；所述第一电子注入层的厚度为1~10nm；所述第一阴极的厚度为10~100nm；所述第一光取出层的厚度为40~100nm。


3.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述第二区域的各膜层厚度分别为第一区域的各膜层厚度的50%~90%。


4.一种显示面板制备方法，用以制备如权利要求1-3任一所述的显示面板，其特征在于，包括：
提供一基板，将所述基板划分为第一区域和第二区域；
先在所述第一区域上制备第一像素定义层，在所述第二区域上制备第二像素定义层；
然后在所述第一区域上依次制备第一阳极、第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第一电子注入层、第一阴极和第一光取出层；
其中，所述第一空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏宇飞，岳春波，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：广东;44