用于磁共振成像的自屏蔽梯度场线圈制造技术

一种用于磁共振成像装置（１０）的梯度线圈，包括：　　　　初级线圈（１６），定义内圆柱面（６０）；　　　　屏蔽线圈（１８），定义与内圆柱面（６０）同轴对准的外圆柱面（６２），并且具有大于内圆柱面（６０）的圆柱半径；　　　　多个线圈跳变（７４），电连接初级和屏蔽线圈（１６、１８），且线圈跳变（７４）定义非平面的电流共享表面（６４），该非平面的电流共享表面在与内圆柱面（６０）一致的内轮廓（６６）和与外圆柱面（６２）一致的外轮廓（６８）之间延伸；　　　　初级线圈（１６）、屏蔽线圈（１８）和线圈跳变（７４）共同定义多次穿过位于内、外轮廓（６６、６８）之间的电流共享表面（６４）的电流路径。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】下文涉及诊断成像技术。本专利技术特别涉及用于短孔(short-bore)磁共振成像扫描器的磁场梯度线圈，并将结合本专利技术的特定参考描述本专利技术。然而，下文更为广泛地涉及用于各种类型磁共振成像扫描器的磁场梯度线圈，并涉及用于对减小的关注体积成像的专用梯度线圈。在磁共振成像系统中，通常在成像区域内产生磁场梯度以实现磁共振的空间编码。这些梯度是由一组磁场梯度线圈产生的。通常提供梯度线圈，用于在每个横向的x和y方向以及轴向的z方向上产生独立的磁场梯度。对于各种应用，例如在短孔磁共振成像扫描器内产生梯度，或者在缩小的视场(FoV)上产生专用的局部梯度以成像特定器官，理想的是采用相对更短的梯度线圈。将梯度线圈调整到缩小的长度而同时保持高的梯度峰值振幅和线性以及孔直径时，线圈匝被压缩得愈加靠近线圈末端。此外，在周围冷屏内感应的涡流引起的成像失真和假象变得更成问题。此外，适应的或变化的视场梯度线圈要求采用特定的磁共振扫描器或磁场梯度线圈组，以用于更大范围的应用。本专利技术设想出克服前述局限性及其它局限的一种改进的装置和方法。根据一个方面，公开了用于磁共振成像装置的梯度线圈。初级线圈定义内圆柱面。屏本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：S·M·什瓦特斯曼，M·A·莫里奇，G·D·德梅斯特，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：