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用于磁共振成像的自屏蔽梯度场线圈制造技术
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下载用于磁共振成像的自屏蔽梯度场线圈的技术资料
文档序号:2634152
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一种用于磁共振成像装置(10)的梯度线圈,包括: 初级线圈(16),定义内圆柱面(60); 屏蔽线圈(18),定义与内圆柱面(60)同轴对准的外圆柱面(62),并且具有大于内圆柱面(60)的圆柱半径; 多个线圈跳变(74)...
该专利属于皇家飞利浦电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过皇家飞利浦电子股份有限公司授权不得商用。
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