【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法。本专利技术还涉及一种用于试样电性能的方法。此外,本专利技术还涉及一种用于在试样特定位置上测试电性能的探头。具体地说,本专利技术还涉及包括悬臂部的测试探头。此外,本专利技术还涉及一种用于试样电性能的测试设备。参见第US6,358,762、US5,811,017、WO03/096429、US6,232,143、US5,475,318、WO03/046473、EP0 886 758、EP0 974845、EP1 095 282、US6,479,395、US5,545,291、US5,347,226、US6,507,204、US6,343,369、US5,929,438和US2002/174715专利公开文件,在此为所有目的,所有上面提到的这些专利公开文件全部参照地并入本说明书中。根据本专利技术的第一方面,提供一种用于在试样特定位置上测试电性能的探头。该探头可包括承载体,分别限定构成柔性悬臂部和基体部的相对第一和第二部,其中该柔性悬臂部在一个方向显著是柔性的,该悬臂部限定基本上垂直于一个方向的外平面表面,该基体 ...
【技术保护点】
一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法,包括的步骤为: 提供限定平面表面和边缘的所述支撑衬底,所述衬底进一步限定第一晶体平面; 在所述支撑衬底所述表面上提供第一掩模,所述第一掩模在所述边缘所述表面上限定第一外露区域; 提供特定的刻蚀剂、通过所述刻蚀剂蚀刻所述第一外露区域形成的凹穴,所述凹穴限定第一侧壁、相对的第二侧壁、远离所述边缘的端壁和底壁; 提供限定平面表面和与所述第一晶体平面相同的第二晶体平面的探头衬底; 使所述探头衬底定位,从而当使用特定的刻蚀剂由所述探头衬底形成探头时使所述第一和第二晶体平面相同定位,所述探头把全等的表面限定到所述第一侧壁和第二侧壁上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:彼得福尔默尼耳森,彼得RE彼得森,杰斯波阿德曼汉森,
申请(专利权)人:卡普雷斯股份有限公司,
类型:发明
国别省市:DK[丹麦]
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