【技术实现步骤摘要】
多弧离子镀膜靶材
本技术涉及多弧离子镀膜
,具体为多弧离子镀膜靶材。
技术介绍
多弧离子镀膜是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法,在采用多弧离子镀膜的方法进行镀膜时,必须要使用到专用的镀膜靶材。现在传统的镀膜靶材使用贵金属钛、铬、锆、镍等,成本较高,不便于与合适的设备进行安装连接,且容易出现材料的损坏,需要降低靶材成本,使用时不会轻易的损坏,且便于与合适的设备进行安装连接的新型镀膜靶材。针对上述问题,急需在原有镀膜靶材的基础上进行创新设计。
技术实现思路
本技术的目的在于提供多弧离子镀膜靶材,以解决上述
技术介绍
中提出的贵金属成本较高,在使用时容易出现损坏,不便于与合适的设备进行安装连接,且容易出现材料的损坏的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:多弧离子镀膜靶材,包括底座、定位槽和顶板,所述底座的底端表面贴合有防腐涂层,且底座的内部安置有支撑机构,所述定位槽的内部安装有凸块, ...
【技术保护点】
1.多弧离子镀膜靶材,包括底座(1)、定位槽(4)和顶板(6),其特征在于:所述底座(1)的底端表面贴合有防腐涂层(2),且底座(1)的内部安置有支撑机构(3),所述定位槽(4)的内部安装有凸块(5),且定位槽(4)位于底座(1)的顶端表面,所述顶板(6)的底端表面连接有延伸块(7),且顶板(6)位于底座(1)的上方,所述延伸块(7)的右侧设置有卡槽(8),所述顶板(6)的表面固定有铆钉(9),且顶板(6)的外部安置有外壳(10),所述外壳(10)的外部设置有外螺纹(11)。/n
【技术特征摘要】
1.多弧离子镀膜靶材,包括底座(1)、定位槽(4)和顶板(6),其特征在于:所述底座(1)的底端表面贴合有防腐涂层(2),且底座(1)的内部安置有支撑机构(3),所述定位槽(4)的内部安装有凸块(5),且定位槽(4)位于底座(1)的顶端表面,所述顶板(6)的底端表面连接有延伸块(7),且顶板(6)位于底座(1)的上方,所述延伸块(7)的右侧设置有卡槽(8),所述顶板(6)的表面固定有铆钉(9),且顶板(6)的外部安置有外壳(10),所述外壳(10)的外部设置有外螺纹(11)。
2.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜靶材,其特征在于:所述防腐涂层(2)的表面积大于底座(1)的表面积,且防腐涂层(2)的内部表面与底座(1)的外部表面之间紧密贴合。
3.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜靶材,其特征在于:所述支撑机构(3)包括支撑板(301)、加强筋(302)、固定圈(303)和支杆(304),且支撑板(301)的右侧固定有加强筋(302),所述加强筋(...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨小岗,
申请(专利权)人:陕西欧凯利靶材股份有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西;61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。