显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板和显示装置，涉及显示技术领域，用以解决从显示装置中射出的光的出光率不高问题。该显示面板包括：衬底基板；多个发光器件，设置于衬底基板上；其中，发光器件包括发光功能层、偏光超表面层以及反射电极；反射电极位于发光功能层远离显示面板出光面的一侧，且用于对入射至反射电极的光线进行反射；偏光超表面层位于反射电极靠近显示面板的出光面的一侧；偏光超表面层具有阵列排布的多个纳米镂空图案，该多个纳米镂空图案用于将入射至偏光超表面层的光线转换成椭圆偏振光，并出射，椭圆偏振光近似为线偏振光或者圆偏振光。

【技术实现步骤摘要】
显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
技术介绍
量子点发光二极管(QuantumDotLightEmittingDiodes,QLED)显示装置具有自发光、低电压驱动、高发光率和宽视角等优点，成为目前非常热门的研究方向。其中，在QLED显示装置的显示侧设置一偏振膜，可以使得从QLED显示装置中射出的光被偏振。然而，在长时间的使用后，偏振膜会受到划刻等影响，从而造成损耗，进而导致从QLED显示装置中射出的光的出光率不高。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示面板和显示装置，用以解决从显示装置中射出的光的出光率不高问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供了一种显示面板，该显示面板包括：衬底基板；多个发光器件，设置于衬底基板上；其中，发光器件包括发光功能层、偏光超表面层以及反射电极；反射电极位于发光功能层远离显示面板出光面的一侧，且用于对入射至反射电极的光线进行反射；偏光超表面层位于反射电极靠近显示面板的出光面的一侧；偏光超表面层具有阵列排本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n多个发光器件，设置于所述衬底基板上；其中，所述发光器件包括发光功能层、偏光超表面层以及反射电极；/n所述反射电极位于所述发光功能层远离所述显示面板的出光面的一侧，且用于对入射至所述反射电极的光线进行反射；/n所述偏光超表面层位于所述反射电极靠近所述显示面板的出光面的一侧；所述偏光超表面层具有阵列排布的多个纳米镂空图案，所述多个纳米镂空图案用于将入射至所述偏光超表面层的光线转换成椭圆偏振光，并出射，所述椭圆偏振光近似为线偏振光或者圆偏振光。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
多个发光器件，设置于所述衬底基板上；其中，所述发光器件包括发光功能层、偏光超表面层以及反射电极；
所述反射电极位于所述发光功能层远离所述显示面板的出光面的一侧，且用于对入射至所述反射电极的光线进行反射；
所述偏光超表面层位于所述反射电极靠近所述显示面板的出光面的一侧；所述偏光超表面层具有阵列排布的多个纳米镂空图案，所述多个纳米镂空图案用于将入射至所述偏光超表面层的光线转换成椭圆偏振光，并出射，所述椭圆偏振光近似为线偏振光或者圆偏振光。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述偏光超表面层位于所述反射电极与所述发光功能层之间；
或者，
所述偏光超表面层位于所述发光功能层远离所述反射电极的一侧。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述纳米镂空图案为一个条形孔；
所述条形孔的长度范围为90nm-500nm；
所述条形孔的宽度范围为25nm-125nm；
沿所述条形孔的长度方向，所述多个纳米镂空图案的分布周期为300nm-1200nm。


4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述纳米镂空图案包括顺时针或逆时针分布的四个条形孔；所述四个条形孔分别为按照顺时针或逆时针的方向依次垂直的第一条形孔、第二条形孔、第三条形孔以及第四条形孔；
所述第一条形孔靠近所述第二条形孔的一端与所述第二条形孔的两端之间的位置相对；
所述第二条形孔靠近所述第三条形孔的一端与所述第三条形孔的两端之间的位置相对；
所述第三条形孔靠近所述第四条形孔的一端与所述第四条形孔的两端之间的位置相对；
所述第四条形孔靠近所述第一条形孔的一端与所述第一条形孔的两端之间的位置相对；
所述四个条形孔中每个条形孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍里斯克里斯塔尔，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11