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一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型及应用制造技术

技术编号:26221727 阅读:44 留言:0更新日期:2020-11-04 10:50
本发明专利技术属于电极探测技术领域,公开了一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型及应用,探测器模型中央电极的半径约为10微米,球状外围电极的宽度约为10微米,探测器的半径约为60微米。硅体即球体,可以是n型或者p型硅基,电极由1×10

【技术实现步骤摘要】
一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型及应用
本专利技术属于X射线探测
,尤其涉及一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型及应用。
技术介绍
目前,三维电极探测器较之传统的二维/平面探测器具有诸多优势,比如其耗尽电压不再受到探测器晶元厚度的影响,可以使探测器厚度增加至几个毫米而不增加探测器的耗尽电压(现有探测器较厚的厚度也仅为几百微米)。探测器的耗尽电压不受其厚度限制,将会给探测器带来很多优势,比如现存超纯高阻硅探测器在50KeV能量以上的探测效率可以增加至30%左右,而平面探测器由于其厚度限制,探测效率仅约为15%。随着三维电极探测器的提出,如何将电场优化至理想模型一直是三维电极探测器的困扰。通过上述分析,现有技术存在的问题及缺陷为:现有的三维电极探测器无法将电场优化至理想模型。解决以上问题及缺陷的难度为:传统二维探测器将电极制作在晶元的上下两个表面,其全耗尽电压与电极间距有关,因此晶元的厚度对探测器的全耗尽电压(耗能)有很大的限制。传统三维电极探测器分为柱状电极与沟槽电极两种,不管是哪一种设计,都会由于探测器柱状电极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型,其特征在于,所述点状三维球状超小电容半导体探测器模型为:/n

【技术特征摘要】
1.一种点状三维球状超小电容半导体探测器模型,其特征在于,所述点状三维球状超小电容半导体探测器模型为:



电势与电场如下:





2.如权利要求1所述的点状三维球状超小电容半导体探测器模型,其特征在于,所述探测器模型中央电极的半径约为10微米,球状外围电极的宽度为10微米,探测器的半径为60微米。


3.如权利要求1所述的点状三维球状超小电容半导体探测器模型,其特征在于,所述硅体即球体若是n型硅基,球状电极由1×1019/cm3的p型重掺杂组成,中央点状电极由1×1019/cm3的n型重掺杂组成,这种探测器用于无辐射环境下的光子探测,低能X射线探测。


4.如权利要求1所述的点状三维球状超小电容半导体探测器模型,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘曼文李正
申请(专利权)人:鲁东大学
类型:发明
国别省市:山东;37

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