【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有粘合剂管芯附接的扇出式层叠封装相关申请的交叉引用本申请要求于2018年5月16日提交的题为“FANOUTPACKAGE-ON-PACKAGEWITHADHESIVEDIEATTACH”的美国专利申请No.15/981,830的优先权,其全部内容通过引用被并入。
技术介绍
在电子产品制作中,集成电路(IC)封装是半导体器件制造的阶段,在该阶段中,将已经在包括半导体材料的管芯或芯片上制造的IC包封在支撑盒或“封装”中,该支撑盒或“封装”可以保护IC免受物理损坏并支撑将器件连接到主电路板的电接触部。在IC工业中,制造封装的工艺常常称为封装或组装。层叠封装(PoP)技术是垂直地集成多个部件(例如,IC芯片)的3D封装架构,其中两个或更多封装安装(即堆叠)在彼此顶部上。可以在PoP架构内以各种方式组装IC芯片。例如,第一IC芯片可以具有球栅阵列(BGA)封装,而堆叠在第一IC芯片上的第二IC芯片可以通过附加的BGA连接部连接到第一IC芯片。作为另一个示例,第一IC芯片可以具有倒装芯片BGA封装(例如,FCBGA),而堆叠在第一芯片的背面上的第二IC芯片通过引线键合部(例如,混合式堆叠FBGA)连接到第一IC芯片。PoP和倒装芯片引线键合封装的当前趋势在封装的大批量可制作性和物理尺寸方面带来了新的挑战。即使器件设计的复杂性增加,器件也要承受更大的压力以在形状因数上实现新的里程碑。在PoP封装架构中,z高度(厚度)是非常重要的特性。例如,在一些器件应用中,0.3-0.4mm或更小的封装z高度是非常需要的。对于大批量可 ...
【技术保护点】
1.一种微电子器件封装组件,包括:/n包括第一集成电路(IC)的第一芯片;/n与所述第一芯片相邻的过孔结构;/n第一封装材料,所述第一封装材料在所述第一芯片的侧壁和所述过孔结构的侧壁之间;/n一个或多个再分布层,所述一个或多个再分布层电耦合到所述第一芯片的第一侧并电耦合到所述过孔结构的第一侧;/n包括第二IC的第二芯片,其中,所述第二芯片在所述第一芯片的与所述第一侧相对的第二侧之上,并且其中,所述第二芯片电耦合到所述过孔结构的第二侧;以及/n第二封装材料,所述第二封装材料在所述第一芯片的至少一部分与所述第二芯片的至少一部分之间。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180516 US 15/981,8301.一种微电子器件封装组件,包括:
包括第一集成电路(IC)的第一芯片;
与所述第一芯片相邻的过孔结构;
第一封装材料,所述第一封装材料在所述第一芯片的侧壁和所述过孔结构的侧壁之间;
一个或多个再分布层,所述一个或多个再分布层电耦合到所述第一芯片的第一侧并电耦合到所述过孔结构的第一侧;
包括第二IC的第二芯片,其中,所述第二芯片在所述第一芯片的与所述第一侧相对的第二侧之上,并且其中,所述第二芯片电耦合到所述过孔结构的第二侧;以及
第二封装材料,所述第二封装材料在所述第一芯片的至少一部分与所述第二芯片的至少一部分之间。
2.根据权利要求1所述的器件封装组件,其中,所述第一封装材料在所述第一芯片的所述第二侧与所述第二封装材料之间。
3.根据权利要求1-2中任一项所述的器件封装组件,其中:
所述第二封装材料在所述过孔结构的至少一部分与所述第二芯片的至少一部分之间;并且
所述第一封装材料在所述过孔结构的所述第二侧与所述第二封装材料之间。
4.根据权利要求1-2中任一项所述的器件封装组件,还包括将所述第二芯片电耦合到所述过孔结构的多个互连。
5.根据权利要求3所述的器件封装组件,其中,所述互连包括焊料特征,并且在所述焊料特征之间不存在所述第二封装材料。
6.根据权利要求5所述的器件封装组件,还包括在所述焊料特征之间的第三封装材料。
7.根据权利要求6所述的器件封装组件,其中,所述第三封装材料在所述第二芯片与所述第一封装材料之间,并且其中,所述第三封装材料的侧壁与所述第二封装材料的侧壁相邻。
8.根据权利要求4所述的器件封装组件,其中:
所述互连在与所述第二芯片的第一边缘相邻的行中对准;
所述第二芯片的覆盖区的被互连的所述行占据的第一部分悬垂超过所述第二封装材料的边缘;并且
所述第二芯片的所述覆盖区的未被互连的所述行占据的第二部分与所述第二封装材料接触。
9.根据权利要求8所述的器件封装组件,其中,所述第二封装材料至少延伸超过所述第二芯片的与所述第二芯片的所述第一边缘相对的第二边缘。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的器件封装组件,其中:
所述第一封装材料包括第一环氧树脂;
所述第二封装材料包括第二环氧树脂;并且其中,
所述组件还包括所述第二芯片之上的第三环氧树脂。
11.一种封装的微电子器件,包括:
微处理器芯片,其中,所述微处理器芯片的第一侧电耦合到封装的一个或多个再分布层;
与所述微处理器芯片相邻的过孔结构,其中,所述过孔结构的第一侧电耦合到所述一个或多个再分布层;
第一封装材料,所述第一封装材料在所述微处理器芯片的侧壁与所述过孔结构的侧壁之间;
存储器芯片,所述存储器芯片在所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:D·奥沙利文,B·魏达斯,T·休伯,
申请(专利权)人:英特尔IP公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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