图像沉降法测量颗粒粒度的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是粉体技术或颗粒技术领域里利用图像沉降法测量颗粒粒度的装置，该装置在光源的正前方安装一个产生平行光的凸透镜，由原来的一个光电传感器，发展成由１０２４－４０９６个光电二极管图像传感器，经信号放大电路和Ａ／Ｄ图像板及计算机处理，能够解决测量颗粒粒度时测量范围窄，测量时间长、以及测量装置复杂和不可靠的缺陷，由于本装置采用图像技术测量颗粒的沉降高度或沉降距离，绝对误差小于０．０３ｍｍ。（*该技术在2006年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术所属的
为粉体技术或颗粒测量技术。颗粒的粒度和粒度分布是颗粒和粉末材料的重要参数。美国专利3,449,567公开报导了利用光沉降法测量颗粒度和粒度分布。该法的基本原理是测量光束通过颗粒悬浮液的消光强度随时间的变化，根据沉降理论计算颗粒的当量直径。该法采用的光源可为可见光、激光或X射线；采用的力场可为重力场或离心力场。该法具有分辨率高、精确度好等优点。根据该原理生产的测量颗粒粒度的装置有美国麦克公司，采用X射线和重力场原理的Sedigraph 5100，美国布鲁克海文公司，采用X射线和离心力场原理的BI-XDC，以及日本清新公司，采用可见光和重力场及离心力场的SK-2000粒度仪等。但这些测量装置均采用一个光电传感器将光强度转变成电信号，不能同时获得悬浮液表面以下不同沉降高度处的消光强度变化。尽管有的仪器装置附加了移动沉降槽的机械装置，但由于颗粒样品的粒度范围不同，所以测量时间较长。同时，机械移动装置增加了仪器的复杂性和不可靠性，对于给定的颗粒样品，在测量过程中判断何时才是测量的终点，对于快速测量极其重要。本技术的目的在于解决在颗粒粒度测量存在的测量时间长、测量装置复本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量颗粒粒度的装置，包括光源，悬浮液沉降容器，传感器，信号放大电路和计算机，其特征在于在光源的正前方安装一个产生平行光的凸透镜，在凸透镜与盛悬浮液的透明容器间有一带有狭缝的隔板或隔栅，光透过容器照射在产生电信号的图像传感器，经信号放大电路和图像传感器连结的是Ａ／Ｄ图像板和计算机。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：马兴华，完明睿，沈天临，
申请(专利权)人：中国科学院化工冶金所，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]