一种并行超分辨三维直写装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种并行超分辨三维直写装置，该装置利用实心光斑对光刻胶的聚合效应与空心光斑的抑制聚合效应，实现超衍射极限的光刻能力；将两束不同波长的光束分别经过数字微镜器件入射到相位衍射微透镜阵列上，分别形成等间距的实心光斑阵列与空心光斑阵列，且实心光斑与空心光斑的中心相重合，利用数字微镜器件的快速开关能力，对实心光斑阵列与空心光斑阵列进行快速、特异性调控，实现复杂结构的并行超分辨三维直写。本发明专利技术为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供高速、可独立调控的实心光斑与空心光斑阵列；具有高分辨三维加工能力、复杂结构加工能力和快速加工能力；可以推动高速、超分辨、具有复杂结构刻写能力的三维直写技术的发展。

【技术实现步骤摘要】
一种并行超分辨三维直写装置
本专利技术属于高通量纳米三维直写领域，尤其涉及一种并行超分辨三维直写装置。
技术介绍
随着信息社会的发展，物联网技术的不断进步，现代信息技术进入了智能时代与万物互联网时代，人们对环境信息采集深度与广度不断提升。作为信息技术的三大基础之一，传感器技术得到越来越广泛的应用，使用数量已非常可观，并为社会生活的多个方面带来了革命性变化。随着传感器及各种相关技术水平的不断发展，目前的传感器正朝着微型化、集成化多功能、分布式高灵敏和智能化的方向发展。传感领域对纳米尺寸结构的加工需求也逐渐从二维转向三维，从简单材料转向复杂材料，从单一结构转向复杂大面积结构。人们急需一种能够在纳米尺度上实现三维复杂结构制备，并且可以同时实现快速和大面积加工的系统，这就对加工制造技术提出了更高的挑战。目前，以光刻为代表的微纳加工技术是进行微纳结构加工的主要方法，而早期的平面光刻方法多数应用于平面二维结构的制作，在应对三维、复杂、大面积微纳结构加工方面仍然面临着不小的挑战。目前三维微纳加工技术中最具有潜力解决三维、复杂、大面积微纳结构加本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种并行超分辨三维直写装置，其特征在于，包括第一激光光源（1）、第一透镜（2）、第一可变光阑（3）、第二透镜（4）、第一光束整形器（5）、第一数字微镜器件（6）、反射镜（7）、第二激光光源（8）、第三透镜（9）、第二可变光阑（10）、第四透镜（11）、第二光束整形器（12）、第二数字微镜器件（13）、二向色镜（14）、相位衍射微透镜阵列（15）和三维移动纳米平台（16）；其中，第一激光光源（1）发出第一激光光束，经过第一透镜（2）、第一可变光阑（3）与第二透镜（4）完成滤波与扩束后，进入第一光束整形器（5）转换成平行的平顶光束，第一激光光束再被第一数字微镜器件（6）反射到反射镜（7）上；第...

【技术特征摘要】
1.一种并行超分辨三维直写装置，其特征在于，包括第一激光光源（1）、第一透镜（2）、第一可变光阑（3）、第二透镜（4）、第一光束整形器（5）、第一数字微镜器件（6）、反射镜（7）、第二激光光源（8）、第三透镜（9）、第二可变光阑（10）、第四透镜（11）、第二光束整形器（12）、第二数字微镜器件（13）、二向色镜（14）、相位衍射微透镜阵列（15）和三维移动纳米平台（16）；其中，第一激光光源（1）发出第一激光光束，经过第一透镜（2）、第一可变光阑（3）与第二透镜（4）完成滤波与扩束后，进入第一光束整形器（5）转换成平行的平顶光束，第一激光光束再被第一数字微镜器件（6）反射到反射镜（7）上；第二激光光源（8）发出第二激光光束，经过第三透镜（9）、第二可变光阑（10）与第四透镜（11）完成滤波与扩束后，进入第二光束整形器（12）将转换成平行的平顶光束，第二激光光束再被第二数字微镜器件（13）反射到二向色镜（14）上，反射镜（7）出射的第一激光光束也到达二向色镜（14）；二向色镜（14）透射第一激光光束并反射第二激光光束，两光束合束进入相位衍射微透镜阵列（15）；第一激光光束经过相位衍射微透镜阵列（15）后形成等间距的实心光斑阵列；第二激光光束入射光束经过相位衍射微透镜阵列（15）后形成等间距的空心光斑阵列，且实心光斑与空心光斑的中心相重合；利用实心光斑阵列与空心光斑阵列对三维移动纳米平台（1...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁晨良，朱大钊，匡翠方，刘旭，徐良，
申请(专利权)人：之江实验室，
类型：发明
国别省市：浙江;33