一种波像差测量装置及光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种波像差测量装置及光刻机。所述波像差测量装置包括：照明系统，以及物面光栅板、投影物镜、像面光栅板和光电探测器；物面光栅板和像面光栅板均为透明光栅板；物面光栅板包括物面光栅，物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d；像面光栅板包括像面光栅，像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d；其中，d＝λ(k+1/2)/(n

A wave aberration measuring device and photolithography machine

【技术实现步骤摘要】
一种波像差测量装置及光刻机
本专利技术实施例涉及波像差测量
，尤其涉及一种波像差测量装置及光刻机。
技术介绍
投影物镜波像差是影响光刻机成像质量的关键因素，对于高分辨率的光刻机投影物镜波像差可以采用干涉的方法进行测量。现有技术中波相差测量装置包括照明系统以及沿照明系统发出的光的光路依次设置的物面光栅、投影物镜、像面光栅和探测器，其中，物面光栅和像面光栅均为振幅型光栅，这种光栅的衍射光具有很强的零频光，导致干涉光除包括正负1级光外，还包括零频光，使得正负1级光的干涉对比度下降，进而波像差测量精度下降。
技术实现思路
本专利技术提供一种波像差测量装置及光刻机，以去除光栅衍射中的零频光，提高用于波像差测量的光的强度，提高测量精度。第一方面，本专利技术实施例提供了一种波像差测量装置，包括：照明系统，以及沿所述照明系统发出的光的光路依次排列的物面光栅板、投影物镜、像面光栅板以及光电探测器；所述物面光栅板和所述像面光栅板均为透明光栅板；所述物面光栅板包括物面光栅，所述物面光栅由多个间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种波像差测量装置，其特征在于，包括：/n照明系统，以及沿所述照明系统发出的光的光路依次排列的物面光栅板、投影物镜、像面光栅板以及光电探测器；/n所述物面光栅板和所述像面光栅板均为透明光栅板；/n所述物面光栅板包括物面光栅，所述物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；/n所述像面光栅板包括像面光栅，所述像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；/n其中，d＝λ(k+1/2)/(n

【技术特征摘要】
1.一种波像差测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，以及沿所述照明系统发出的光的光路依次排列的物面光栅板、投影物镜、像面光栅板以及光电探测器；
所述物面光栅板和所述像面光栅板均为透明光栅板；
所述物面光栅板包括物面光栅，所述物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；
所述像面光栅板包括像面光栅，所述像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；
其中，d＝λ(k+1/2)/(n折-1)，λ为入射光的波长，k为正整数，n折为对应光栅板的折射率。


2.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅为一维条状光栅，所述像面光栅为二维棋盘状光栅。


3.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅板和所述像面光栅板的形成材料在深紫外光波段的折射率取值范围为1.1～1.8。


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【专利技术属性】
技术研发人员：夏建培，马明英，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31