一种PVD多层离子镀膜工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种PVD多层离子镀膜工艺，其技术方案要点是：具体包括以下步骤：S1、清理轮毂；S2、涂覆底胶；S3、选取铝靶；S4、抽真空；S5、一次轰击；S6、二次轰击；S7、三次轰击；本工艺相比传统得以优化，流程过渡顺畅，本工艺在镀铝时，在轮毂表面涂覆有底胶，能够保证在镀铝时离子溅射吸附在轮毂表面的稳定性，能够提高镀铝产品的质量；本工艺在镀铝时，特制了铝靶，其具有在轰击时离子溅射量大，四散程度高的优点；本工艺在镀铝时，采用了一次轰击、二次轰击和三次轰击的多层重复涂镀的方式，形成的铝膜细腻、光滑，得到的产品耐磨性、抗压强度皆有所提升。

【技术实现步骤摘要】
一种PVD多层离子镀膜工艺
本专利技术涉及镀膜领域，特别涉及一种PVD多层离子镀膜工艺。
技术介绍
PVD镀膜即真空镀膜，其应用广泛，其中真空镀膜是其中的重要一种，如现有公开号为CN104589766B的中国专利，其公开了一种真空镀铝复合膜的生产工艺，加工步骤包括：选用基材—真空镀铝—涂布粘胶剂—复合—收卷—熟化处理，得到成品真空镀铝复合膜。再如现有公开号为CN109518142A的中国专利，其公开了一种铝合金表面的PVD真空镀膜工艺，打底层：弧电源轰击，偏压控制在200～300V，时间控制在3～5分钟；中间多层：用氧化物和氮化物多层过渡，层数控制8～10层；单层时间控制在10～20分钟；靶电流控制在10～20A；过渡咬合层：过渡层和颜色层混合溅射时间15～25分钟；颜色层：颜色层时间控制在20～30分钟；保护层：选用高频率大能量电源，时间控制在40～50分钟，得到PVD膜层。上述的这种真空镀铝复合膜的生产工艺和铝合金表面的PVD真空镀膜工艺都存在着一些缺点。如：第一、其中镀铝之前皆未采用涂覆底漆工艺，容易造成后续镀铝表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种PVD多层离子镀膜工艺，其特征在于：具体包括以下步骤：/nS1、清理轮毂：清理轮毂表面的油污和灰渍；/nS2、涂覆底胶：在所述S1的轮毂表面涂覆一层底胶；/nS3、选取铝靶：选取直径为2-3mm的粉末冶金铝作为铝靶；/nS4、抽真空：用真空泵抽真空，使蒸镀室中的真空度达到0.0001MPa，并冲入氩气；/nS5、一次轰击：加热蒸发舟使铝靶在1300-1400℃的温度下熔化并蒸发成气态铝，控制蒸发舟内电流为60-80A、频率为50-60Hz的小电流，轰击时间为30s；/nS6、二次轰击：控制蒸发舟内电流为100-120A、频率为50-60Hz的中电流，去除膜表面粒状颗粒，控制轰击时间为8...

【技术特征摘要】
1.一种PVD多层离子镀膜工艺，其特征在于：具体包括以下步骤：
S1、清理轮毂：清理轮毂表面的油污和灰渍；
S2、涂覆底胶：在所述S1的轮毂表面涂覆一层底胶；
S3、选取铝靶：选取直径为2-3mm的粉末冶金铝作为铝靶；
S4、抽真空：用真空泵抽真空，使蒸镀室中的真空度达到0.0001MPa，并冲入氩气；
S5、一次轰击：加热蒸发舟使铝靶在1300-1400℃的温度下熔化并蒸发成气态铝，控制蒸发舟内电流为60-80A、频率为50-60Hz的小电流，轰击时间为30s；
S6、二次轰击：控制蒸发舟内电流为100-120A、频率为50-60Hz的中电流，去除膜表面粒状颗粒，控制轰击时间为80s；
S7、三次轰击：控制蒸发舟内电流20-30A、频率为550-600Hz为高频电流，控制轰击时间为40s。


2.根据权利要求1所述的一种PVD多层离子镀膜工艺，其特征在于：所述S2涂覆底胶中采用的底胶为聚偏二氯乙烯乳液或U-342。


3.根据权利要求1所述的一种PVD多层离子镀膜工艺，其特征在于：所述S1清理轮毂时，先用脱脂剂脱脂，之后利用高压水进行冲洗，冲洗之后进行烘干。


4.根据权利要求1所述的一种PVD多层离子镀膜工艺，其特征在于：在所述S6二次轰击和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋建华，向毅，
申请(专利权)人：昆山金百辰金属科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32