【技术实现步骤摘要】
一种多弧离子镀易损件保护结构
本技术涉及一种多弧离子镀易损件保护结构。
技术介绍
多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别，多弧离子镀采用弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积，简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极(如箱体)之间的弧光放电，使靶材蒸发从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积形成薄膜的方法，现有的技术中，反应室台阶上安装的密封圈，遇热容易软化，使密封效果下降，从而影响镀膜的效果；使用寿命低需要定期更换。为此，提出一种多弧离子镀易损件保护结构。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有的技术中，反应室台阶上安装的密封圈，遇热容易软化，是密封效果下降，使用寿命低需要经常更换等问题而提出一种多弧离子镀易损件保护结构。为了达到上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种多弧离子镀易损件保护结构，包括反应室和安装在反应室内的弧源；所述反应是内设有阶梯；所述阶梯与反应室之间安装有密封圈；其特征是所述反应室内安装有隔热片；所述隔热片上一面设有若干个凸齿；所述隔热片上设有凸齿的一面与反应室相接触。作为优选，所述反应室底面上还安装有弧源；所述弧源侧边设有弧源发生器；所述弧源发生器固定在反应室的底面。作为优选，所述隔热片与凸齿为一体成型。本技术的有益效果：该保护结构结构简单，使用方便，能够延长密封圈的使用寿命，还可以起到隔热和散热的效果。【附图说明】图1是本技术的结构示意图。图2是本技术铁片的结构示意...
【技术保护点】
1.一种多弧离子镀易损件保护结构，包括反应室(1)和安装在反应室(1)内的弧源(2)；所述反应室(1)内设有阶梯(3)；所述阶梯(3)与反应室(1)之间安装有密封圈(7)；其特征是所述反应室(1)内安装有隔热片(4)；所述隔热片(4)上一面设有若干个凸齿(5)；所述隔热片(4)上设有凸齿(5)的一面与反应室(1)相接触。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种多弧离子镀易损件保护结构，包括反应室(1)和安装在反应室(1)内的弧源(2)；所述反应室(1)内设有阶梯(3)；所述阶梯(3)与反应室(1)之间安装有密封圈(7)；其特征是所述反应室(1)内安装有隔热片(4)；所述隔热片(4)上一面设有若干个凸齿(5)；所述隔热片(4)上设有凸齿(5)的一面与反应室(1)相接触。
技术研发人员：冷长志，
申请(专利权)人：杭州云度新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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