【技术实现步骤摘要】
一种激光复合扫描近场光学显微镜探针的纳米加工方法
本专利技术涉及纳米结构制造
,具体涉及一种激光复合扫描近场光学显微镜探针的纳米加工方法。
技术介绍
近年来,在电子等设备小型化、集成化的需求下,进一步减小微光机电器件的尺寸成为研究的热点。纳米电子器件正朝着更小纳米尺寸、更高集成度、更强性能等方向发展,亟需在纳米制造方面进行突破,纳米结构的制造成为突破这一瓶颈的亟待开发与研究的重要技术手段。针对纳米级结构的制造,已有的部分工艺方法还存在一些问题:传统的掩模光刻工艺受到半波衍射极限的限制,已不适于纳米尺度表面结构的制造;电子束、离子束、X射线光刻等技术提供了高精度的纳米加工方法,但设备成本昂贵,技术复杂,影响了这些方法的普遍应用;微接触印刷技术只适用于在材料表面添加一层液态单分子层,无法使材料本身形成纳米结构。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的缺点,本专利技术的目的在于提供一种利用激光复合扫描近场光学显微镜(SNOM)探针的纳米结构制造方法,同时利用SNOM探针针尖的高精度,以及激光在针尖产 ...
【技术保护点】
1.一种激光复合扫描近场光学显微镜探针的纳米加工方法,其特征在于:包括以下步骤:/n1)制备样片;通过磁控溅射仪在硅片基底表面溅射一层50nm厚度的银薄膜;/n2)搭建激光复合SNOM探针加工平台:/n搭建光路,光路包括光纤激光器、原子力显微镜及其控制系统,SNOM探针和光学成像系统(CCD相机),将光纤激光器发出的激光聚焦于SNOM探针针尖小孔处,并实时对激光功率进行调节;/n搭建好光路后,将样片固定在下方为压电陶瓷管的载物台上;/n3)设置激光参数并进行加工:采用激光复合SNOM探针加工平台进行纳米结构加工,激光的具体参数为:波长为808nm的连续激光,30-50mW的 ...
【技术特征摘要】
1.一种激光复合扫描近场光学显微镜探针的纳米加工方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)制备样片;通过磁控溅射仪在硅片基底表面溅射一层50nm厚度的银薄膜;
2)搭建激光复合SNOM探针加工平台:
搭建光路,光路包括光纤激光器、原子力显微镜及其控制系统,SNOM探针和光学成像系统(CCD相机),将光纤激光器发出的激光聚焦于SNOM探针针尖小孔处,并实时对激光功率进行调节;
搭建好光路后,将样片固定在下方为压电陶瓷管的载物台上;
3)设置激光参数并进行加工:采用激光复合SNOM探针加工平台进行纳米结构加工,激光的具体参数为:波长为808nm的连续激光,30-50mW的激光能量辐照SNOM探针针尖小孔,在样片的银薄膜上制造得到纳米级结构。
2.根据权利要求1所述的一种激光复合扫描近场光学显微镜探针的纳米加工方法,其特征在于,所述的步骤2)中搭建光路的具体步骤为:将光纤激光器发出的激光垂直照射在SNOM(扫描近场光学显微镜)探...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔健磊,王学文,梅雪松,王文君,凡正杰,刘斌,孙铮,段文强,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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