一种基于红外傅里叶光谱仪的反射各向异性光谱装置制造方法及图纸

一种基于红外傅里叶光谱仪的反射各向异性光谱装置，包括由傅里叶光谱仪发射的干涉光，沿着干涉光前进的方向依次置有聚焦反射镜，干涉光经聚焦反射镜反射，通过线偏振器起偏，输入到置在步进马达转轴上的样品上，经样品反射产生一束信号光，再经聚焦反射镜聚焦，然后由探测器探测。本装置结构简单，测量方便，适合于半导体材料禁带宽度能量之下表面与界面特性的测量，及薄膜材料生长实时监控分析。（*该技术在2009年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及红外傅里叶光谱仪的反射各向异性光谱装置。随着外延薄膜生长技术的发展，薄膜的表面与界面特性日益受到重视，人们不但希望能表征静态表面与界面结构，而且希望能监测各种材料处理环境中动态表面、界面过程。现有的表面诊断技术如电子衍射等仅有有限的穿透深度，只能探测到几个纳米厚覆盖层的界面。然而随着外延厚度的增加，由于应力释放等原因，界面特性会发生变化。现有的表面诊断技术对掩埋在表面以下几百纳米的界面已无能为力，光学方法因其具有更大的穿透深度而得到考虑，其中反射各向异性光谱方法是至今为止应用最成功的一种光谱方法。反射各向异性光谱，也称反射差分光谱，是通过测量正入射时样品表面内两正交偏振方向反射系数相对差值随入射光能量的变化来研究材料特性的光学方法。在红外波段，早在15年前就有关于Si(111)和Ge(111)表面在近红外波段的反射各向异性光谱研究。主要有两种方法一种是反射率差值光谱方法(Differential Reflectivity)，即先在超高真空下测量样品表面的反射，然后将样品暴露在空气中氧化后测量其反射率，通过两者差值来获取有关信息。具体参见Phys.Rev.Lett.，1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于红外傅里叶光谱仪的反射各向异性光谱装置，包括红外傅里叶光谱仪、聚焦反射镜、线偏振器、样品、步进马达、探测器，其特征在于：由红外傅里叶光谱仪发射的红外干涉光（１）前进的方向上依次置有带三维调节架（１０）的聚焦反射镜（２）、线偏 振器（４）、置在步进马达（６）的转轴上的样品（５）、带三维调节架（１１）的聚焦反射镜（３）、探测器（７）；红外干涉光（１）经聚焦反射镜（２）反射，通过线偏振器（４）起偏，入射至样品（５），经其反射，至聚焦反射镜（３）反射会聚，输入探测器 （７）；所说的探测器（７）与红外傅里叶光谱仪的信号输入口（８）相连；所说的步进马达（６）与傅里叶光谱仪的马达...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄志明，褚君浩，张展竑，
申请(专利权)人：中国科学院上海技术物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]