一种用于真空等离子体设备的进气管结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体，所述腔体内壁设置一个或多个进气管，每个进气管对应两个位于腔体上的进气口，每个进气管上均设有多个出气孔，本实用新型专利技术提出的进气管结构优化腔体内进气分布，可以获得更好的腔体内气体均匀性，最终得到更好的等离子处理效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空等离子体设备的进气管结构
本技术涉及等离子体
，具体是一种用于真空等离子体设备的进气管结构。
技术介绍
真空等离子设备主要由真空腔体，真空获得系统，气体输送系统，等离子发生系统与控制系统组成。在现有技术中，真空等离子体设备的真空腔结构如图1所示，包括形成腔体的腔体壁、进气孔及抽气口。其中，进气孔常位于腔体的顶部或侧面，数量可以是一至多个，当进气孔在两个以上时，这些进气孔通常由前端的一个主路进气口分为多个进气孔，常见做法如图2。靠近主气路的进气孔1会比远离主气路的进气孔n分得明显多的气体，气体流量会从进气孔1至进气孔n逐渐降低，从而导致较差的腔体内气体均匀性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于真空等离子体设备的进气管结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体，所述腔体内壁设置一个或多个进气管，每个进气管对应两个位于腔体上的进气口，每个进气管上均设有多个出气孔。作为本技术的进一步方案：每个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体（1），其特征在于，所述腔体（1）内壁设置一个或多个进气管（2），每个进气管（2）对应两个位于腔体（1）上的进气口（3），每个进气管（2）上均设有多个出气孔（5）。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体（1），其特征在于，所述腔体（1）内壁设置一个或多个进气管（2），每个进气管（2）对应两个位于腔体（1）上的进气口（3），每个进气管（2）上均设有多个出气孔（5）。


2.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的进气管结构，其特征在于，每个进气管（2）上的出气孔（5）数量不少于2个。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭帆，夏欢，漆宏俊，
申请(专利权)人：上海稷以科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31