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一种用于真空等离子体设备的进气管结构制造技术
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下载一种用于真空等离子体设备的进气管结构的技术资料
文档序号:26149215
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本实用新型公开了一种用于真空等离子体设备的进气管结构,包括腔体,所述腔体内壁设置一个或多个进气管,每个进气管对应两个位于腔体上的进气口,每个进气管上均设有多个出气孔,本实用新型提出的进气管结构优化腔体内进气分布,可以获得更好的腔体内气体均匀...
该专利属于上海稷以科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海稷以科技有限公司授权不得商用。
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