等离子体反应设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种等离子体反应设备，设备包括工作台、反应仓、真空模组、送气模块、射频模组及驱动件。反应仓可转动地装配于工作台，且具有反应腔，可以在反应腔内放置需要处理的物料，例如粉体物料。真空模组对反应腔抽真空，在反应腔内形成真空环境；送气模块向反应腔输送气体，射频模组围设于反应仓外周，向反应腔发射射频波，使反应腔内送入的气体发生电离形成等离子体来处理放置在反应仓内的物料，以改变物料表面的性能；驱动件对反应仓提供旋转驱动力，反应仓在驱动件的驱动下相对工作台转动，以使粉末状物料可以在反应仓内翻转同时与射频电离后的等离子体充分接触，可以对粉末状物料均匀地进行表面处理，提高处理效果。

【技术实现步骤摘要】
等离子体反应设备
本技术涉及材料处理
，特别是涉及等离子体反应设备。
技术介绍
等离子体又叫做电浆，是除了气体、液体和固体之外物质的第四态，其主要是气体经高能激发电离之后形成，等离子体中包含各种高能粒子，主要有阴/阳离子、电子、原子和分子。等离子体可分为两种：高温和低温等离子体，当电子温度和离子温度相等的是高温等离子体,不相等则为低温等离子体。低温等离子体放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体，也叫非平衡态等离子体。基于低温等离子体的这一特点，等离子体在材料处理、金属冶炼、喷涂、焊接、分析以及催化等方向有广泛的应用。常见的等离子体对材料表面的处理主要是利用等离子体中高能粒子对材料表面进行轰击达到处理的目的，或者通过将气体电离之后与材料表面进行反应。等离子体中的高能粒子在与材料表面相互作用时，能够有效的进行刻蚀、掺杂等系列的改性，同时，由于等离子体通常具有较好的还原性，其也可以被用于各种金属材料的合成、还原等。一般地，等离子体处理主要是利用等离子体对具有固定形貌的物体进行处理，譬如利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体反应设备，其特征在于，包括：/n工作台；/n反应仓，可转动地装配于所述工作台，且具有反应腔；/n真空模组，对所述反应腔抽真空；/n送气模块，向所述反应腔输送气体；/n射频模组，围设于所述反应仓外周，向所述反应腔发射射频波；以及/n驱动件，对所述反应仓提供旋转驱动力，所述反应仓在所述驱动件的驱动下相对所述工作台转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体反应设备，其特征在于，包括：
工作台；
反应仓，可转动地装配于所述工作台，且具有反应腔；
真空模组，对所述反应腔抽真空；
送气模块，向所述反应腔输送气体；
射频模组，围设于所述反应仓外周，向所述反应腔发射射频波；以及
驱动件，对所述反应仓提供旋转驱动力，所述反应仓在所述驱动件的驱动下相对所述工作台转动。


2.根据权利要求1所述的等离子体反应设备，其特征在于，还包括搅拌件，所述搅拌件凸出设置于所述反应腔内。


3.根据权利要求1或2所述的等离子体反应设备，其特征在于，所述反应仓可拆卸地装配于所述工作台。


4.根据权利要求1或2所述的等离子体反应设备，其特征在于，所述反应仓包括反应段和安装段，所述反应段和所述安装段沿所述反应仓的旋转轴线所在的第一方向分布，且所述安装段支撑于所述工作台上；
其中，所述反应段在垂直所述第一方向横截面内的截面积，大于所述安装段在垂直所述第一方向横截面内的截面积。


5.根据权利要求1所述的等离子体反应设备，其特征在于，所述射频模组...

【专利技术属性】
技术研发人员：王双印，陶李，
申请(专利权)人：湖南大学，
类型：新型
国别省市：湖南;43