光罩及曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种光罩及曝光装置，光罩包括透明基板及光罩图案，光罩图案设于透明基板上，光罩图案包括图案部、无效部以及接地线；图案部的数量为多个，且相邻的所述图案部具有间隙；无效部设于所述图案部的外围，且与所述图案部间隔设置；无效部设有与外电路电连接的接线端，以便于静电导出；所述接地线将图案部和无效部电性连接，且位于相邻图案部间隙的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm。本实用新型专利技术的光罩使用时可以将光罩上产生的电荷便可以从无效部导入大地，从而可以避免光罩上的图案被静电击伤；且产品不易残留干膜，得到的产品性能佳，该结构的光罩在电子电路及触控显示领域具有很好的前景。

【技术实现步骤摘要】
光罩及曝光装置
本技术涉及曝光
，特别涉及光罩及曝光装置。
技术介绍
在半导体
中，光罩为非常重要的构图工具，用于将光罩中的图案单元以1:1的比例转移到目标衬底上，形成目标衬底上可导电的图案。在曝光过程中，光罩与物体进行接触或相互摩擦时会产生大量电荷，并且在周围空气中也存在大量的电荷，这些电荷容易聚集在光罩上，产生静电积累，当累积的静电电荷到一定程度时，会发生放电现象，从而击伤光罩。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种光罩，该光罩能够解决静电击伤问题，且光罩用于生产产品时干膜不残留。一种光罩，包括：透明基板；光罩图案，设于所述透明基板上，所述光罩图案包括图案部接线端及接地线，所述图案部的数量为多个，且相邻的所述图案部具有间隙；所述接地线将所述图案部和所述接线端电性连接，且位于相邻所述图案部间隙的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm，所述接线端与外电路电连接，以将图案部的静电导出。在其中一个实施例中，所述光罩图案还包括无效部，所述无效部设于所述图案部的外围，且与所述图案部间隔设置，所述接线端设于所述无效部，所述接地线将所述图案部和所述无效部电性连接。本技术提供的光罩，通过将图案部与无效部采用接地线电连接，使用时可以将光罩上产生的电荷便可以从无效部导入大地，从而可以避免光罩上的图案被静电击伤；且将相邻图案部间隙的接地线的宽度设置为0.2mm～0.4mm，此时，当大量的产品进行剥膜步骤时，接地线表面的干膜在剥膜时不会出现残留在产品表面或滚轮上，剥膜液的溶度更易调配，且静电导出效果不影响，此种能够适用于6um以上的各种线宽线路的光罩设计，该结构的光罩在电子电路及触控显示领域具有很好的前景。在其中一个实施例中，每个所述图案部外均围设有所述接地线以形成环状接地线；每个所述环状接地线与相邻的所述环状接地线相连接。而将相邻的环状接地线相互连接，将多个图案部的地线全部连接在一起，统一通过接线端将静电更加集中的导出去。在其中一个实施例中，相邻的两个环状接地线具有至少一个公共边，且形成所述公共边的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm。此种设置，且当大量的产品进行剥膜步骤时，接地线表面的干膜在剥膜时不会出现残留在产品表面或滚轮上，剥膜液的溶度更易调配，将多个接地线形成一个整体，且静电易导出。在其中一个实施例中，所述图案部具有金属引脚，所述金属引脚与邻近的所述接地线通过连接线电连接。可使图案部的静电能通过接地线通过无效部从接线端导入到大地，避免静电累积损伤图案部。在其中一个实施例中，所述连接线的宽度为1μm～2μm。在其中一个实施例中，所述相邻两个图案部的间距为5mm以上。此种设置便于进行刀模冲切加工。在其中一个实施例中，所述光罩还包括防指纹膜，所述防指纹膜设置在所述透明基板背离所述光罩图案的表面，且所述接线端未被所述防指纹膜覆盖。此种设置，这样可以避免在透明基板远离光罩图案的表面留下指纹，从而可以保障曝光效果。在其中一个实施例中，所述光罩图案包括遮光层和透光导电层；所述遮光层设置在所述透明基板上，所述透光导电层设置在所述遮光层背离所述透明基板的表面，或者所述透光导电层设置在所述透明基板上，所述遮光层设置在所述透光导电层背离所述透明基板的表面；所述遮光层包括用于形成所述图案部的第一遮光图案，以及用于形成所述无效部的第二遮光图案；且所述透光导电层与所述第一遮光图案相对的区域与所述第一遮光图案组成所述图案部，所述透光导电层与所述第二遮光图案相对的区域与所述第二遮光图案组成所述无效部。本技术还提供了一种曝光装置，包括所述的光罩。采用上述光罩的曝光装置得到的产品性能更佳，在电子电路及触控显示领域具有很好的前景。在其中一个实施例中，所述光罩的数量为两个，两个所述光罩间隔设置，所述待曝光物体设置在两个所述光罩之间。附图说明图1为本技术一实施方式的光罩的结构示意图；图2为图1中M区域的放大示意图；图3为图1中N区域的放大示意图；图4为本技术一实施方式的光罩的剖面示意图；图5为本技术一实施方式的曝光装置的结构示意图；图6为图5的曝光装置的俯视图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳的实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。如图1至3所示，一实施方式的光罩10，包括透明基板100及设于透明基板100上的光罩图案200；透明基板100采用光学透明材质制成，例如可以是玻璃板、透明塑料板等透明基板；光罩图案200包括图案部201、无效部202及接地线203；其中，图案部201用于将待曝光物体被曝光时转印图案至目标衬底上，使用时，将光罩10放置在待曝光物体上，光线从光罩10一侧对待曝光物体进行照射，从而将光罩10上的图案转印到待曝光物体上。其中，光线通常为紫外光，待曝光物体可以是干膜等。在本实施例中，图案部201的数量为多个，且相邻的图案部201具有间隙；图案部201的数量等于形成产品的数量，本实施例中被曝光后的产品原材料经过显影、剥离、切割和去除边框能够得到多个独立的产品，从而可以提高生产效率；比如，如图1所示，此时图案部201具有6个，则通过一次曝光便可以得到6个独立的产品；且多个图案部201呈阵列式排布，以方便切割，即六个图案部201，分成两排，每排设有三个图案部201。进一步地，请一并参阅图2，相邻的两个图案部201的间距W为5mm以上，此种设置便于进行刀模冲切加工。图案部201不透光且导电，图案部201可阻挡光线从基板穿过，且能够与无效部202和接地线203电连接；进一步地，图案部201为金属材质，比如铬、铜等；图案部201的形成通过电镀或蒸镀等方式在透明基板100上设置金属层，然后再通过蚀刻等工艺去除金属层上多余的部分以形成图案部201。无效部202在曝光过程中不会被曝光；其中，无效部202设于图案部201的外围，且与图案部201间隔设置；可以理解，无效部202包围多个图案部201，即无效部202为环形区域，各图案部201位于环形区域内，以便于各图案部201与无效部202电连接；另外，无效部202具有接线端2021，接线端2021是导电的，用于与外部设备进行电连接，通过接线端2021可以使无效部202与外电路电连接。使用时，可将光罩10上的静电经接线端2021导入至曝光装置中，通过曝光装置接地处理，这样光罩10上产生的电荷便可以从接线端2021导入大地，减少累积本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光罩，其特征在于，包括：/n透明基板；/n光罩图案，设于所述透明基板上，所述光罩图案包括图案部、接线端及接地线，所述图案部的数量为多个，且相邻的所述图案部具有间隙；所述接地线将所述图案部和所述接线端电性连接，且位于相邻所述图案部间隙的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm，所述接线端与外电路电连接，以将图案部的静电导出。/n

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括：
透明基板；
光罩图案，设于所述透明基板上，所述光罩图案包括图案部、接线端及接地线，所述图案部的数量为多个，且相邻的所述图案部具有间隙；所述接地线将所述图案部和所述接线端电性连接，且位于相邻所述图案部间隙的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm，所述接线端与外电路电连接，以将图案部的静电导出。


2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述光罩图案还包括无效部，所述无效部设于所述图案部的外围，且与所述图案部间隔设置，所述接线端设于所述无效部，所述接地线将所述图案部和所述无效部电性连接。


3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，每个所述图案部外均围设有所述接地线以形成环状接地线，每个所述环状接地线与相邻的所述环状接地线相连接。


4.根据权利要求3所述的光罩，其特征在于，相邻的两个环状接地线具有至少一个公共边，且形成所述公共边的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm。


5.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述图案部具有金属引脚，所述金属引脚与邻近的所述接地线通过连接线电连接。


6.根据权利要求5所述的光罩，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李艳强，许建勇，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36