上照式X荧光能量色散光谱仪制造技术

一种上照式Ｘ荧光能量色散光谱仪，包括机身和与之相连的电脑，其特征在于：所述机身包括外壳（９１）、密封样品腔（７１）、机架（９）、探测器（１０）、光管（１１）和样品台（８１），其特征在于：所述样品台（８１）固定于所述探测器（１０）和光管（１１）的下方。因此样品位于照射光路的下方，采用这种光路设计，可以避免在测试过程中可能对光路造成的污染，从而更进一步地排除了可能对测试结果产生影响的因素，保证了测试效果。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种微量元素检测仪器，尤其是一种创新式地采用上照式光路系统的x荧光能量色散光谱仪。
技术介绍
目前进行全元素分析其他方法有很多，除了 x荧光分析法之外，还有电子能谱分析和无机质谱分析两大类这两大类中的其他方法主要如下 电子能谱分析俄歇电子能谱法(AES)，紫外光电子能谱法OJPS) 无机质谱分析感应耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)，微波感应等离子体质谱仪(MIP-MS)，火花源双聚焦质谱仪(SS-MS)，热电离质谱仪(TI-MS)， 辉光放电质谱仪(GD""MS)，激光微探针质谱仪(LM-船)，二次离子质谱仪 (SIMS)。针对镀层分析，目前行业主要分为两大类破坏法镀层检測，非破坏法镀层检測方法。破坏法镀层检測方法必须将检渊部位做断面切片，经过金相研磨、抛光、化学腐蚀得到试样，通过CCD摄像到电脑中，通过计算机测量软件进行电 镀层断面的观察和搠量。这种检測方式的缺点为要破坏检搠样品，所以检測速度慢，只适合于抽检。非破坏性镀层检測方法除了本文将要介绍的x荧光方法外，还包括电磁法、超声波等方式。但是这种方法的检測精度比较低，误判率比较高。本款仪器是采用X荧光分析方法，在分析本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种上照式Ｘ荧光能量色散光谱仪，包括机身和与之相连的电脑，其特征在于：所述机身包括外壳（９１）、密封样品腔（７１）、机架（９）、探测器（１０）、光管（１１）和样品台（８１），其特征在于：所述样品台（８１）固定于所述探测器（１０）和光管（１１）的下方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘召贵，
申请(专利权)人：深圳市天瑞仪器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]