【技术实现步骤摘要】
观察窗组件及半导体加工设备
本专利技术涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种观察窗组件及半导体加工设备。
技术介绍
在IC(集成电路)的制造工艺中,刻蚀机是必不可少的设备。为了便于观察反应腔内部的状态,刻蚀机的反应腔侧壁通常装有观察窗。现有的观察窗一般有两个元件,其中一个为圆片型玻璃,其通过固定件及密封件安装在腔室侧壁上;其中另一个为圆柱型玻璃,其内嵌在腔室侧壁的观察孔中,用作圆片型玻璃的保护件。随着工艺的进行,由于圆柱型玻璃的一端暴露在反应腔内部,其会被等离子体腐蚀,导致透光性降低,需要定期更换维护。而且在更换圆柱型玻璃时,需拆下腔室侧壁上的圆片型玻璃及其固定件和密封件,并在更换圆柱型玻璃后,需再次安装圆片型玻璃及其固定件和密封件,拆装过程复杂,维护效率较低。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种观察窗组件及半导体加工设备,其可以简化拆装过程,提高维护效率。为实现本专利技术的目的而提供一种观察窗组件,包括观察窗和底座,所述底座用于固定安装在腔室壁上; ...
【技术保护点】
1.一种观察窗组件,其特征在于,包括观察窗和底座,所述底座用于固定安装在腔室壁上;在所述底座中设置有容纳所述观察窗的空腔,并且在所述底座上,且位于所述空腔的两侧分别设置有用于显露所述观察窗的开口。/n
【技术特征摘要】
1.一种观察窗组件,其特征在于,包括观察窗和底座,所述底座用于固定安装在腔室壁上;在所述底座中设置有容纳所述观察窗的空腔,并且在所述底座上,且位于所述空腔的两侧分别设置有用于显露所述观察窗的开口。
2.根据权利要求1所述的观察窗组件,其特征在于,所述底座包括相互叠置的底座本体和盖板,在所述底座本体和/或所述盖板上设置有凹槽,以构成所述空腔;
对应地分别在所述底座本体和盖板上设置有通孔,用作所述开口。
3.根据权利要求2所述的观察窗组件,其特征在于,所述底座本体和盖板通过多个螺钉固定连接,多个所述螺钉沿所述通孔的周向间隔分布。
4.根据权利要求2所述的观察窗组件,其特征在于,所述通孔的轴线与所述观察窗的中心重合,且所述通孔的直径小于所述观察窗的外径。
5.根据权利要求2所述的观察窗组件,其特征在于,在所述观察窗与所述底座本体相叠置的两个表面之间,和/或在所述观察窗与所述盖板相叠置的两个表面之间设置有至少一个密封垫圈。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的观察窗组件,其特征在于,所述观察窗组件还包括遮挡板,所述遮挡板可...
【专利技术属性】
技术研发人员:鲁艳成,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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