【技术实现步骤摘要】
一种防碎真空吸笔头
本技术涉及一种防碎真空吸笔头,特别涉及带有防碎凸起的真空吸笔头。
技术介绍
由于在模腔中芯片的胶圈与模腔相粘连,为取出芯片,必须采用吸笔进行吸取芯片的操作。现成的吸笔头真空吸腔是一个圆柱形的空间结构,由于某一型号芯片厚度较小,在吸取过程中需要使用巧劲才能较为迅速地取出芯片,以免碎裂。模腔粘连力过大,就会造成吸取缓慢,影响效率,且极易产生碎裂。而防碎凸起与外围凸起的高度一致时,已产生形变的芯片无法与吸笔头主体平面完全接触而使真空漏气,即无法吸取芯片。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺陷,本技术提供一种防碎真空吸笔头。本技术的技术方案是:一种防碎真空吸笔头,包括吸笔头主体、真空吸孔、真空吸腔,吸笔头主体呈圆盘状,在吸笔头主体一侧设有真空吸腔,真空吸腔最外围设有一圈圆形外围凸起,在真空吸腔中心设有真空吸孔,真空吸孔与外围凸起间设有3~6个“C”型防碎凸起,所述防碎凸起低于外围凸起。所述的吸笔头主体直径为55mm~65mm。所述的真空吸孔直径为3mm~9mm。所述的防碎凸起的形状圆滑。所述的防碎凸起对于真空吸腔底面的高度为0.4mm~0.8mm。所述的外围凸起高度为0.5~1.5mm。所述的外围凸起和防碎凸起的宽度均为1mm~3mm。所述的外围凸起和防碎凸起相邻两两间距为1mm~5mm。所述的外围凸起高度比防碎凸起高度大0.2~0.6mm。所述的防碎凸起C型开口宽度为1mm~3mm。本技术的有 ...
【技术保护点】
1.一种防碎真空吸笔头,包括吸笔头主体(1)、真空吸孔(2)、真空吸腔(3),其特征在于:吸笔头主体(1)呈圆盘状,在吸笔头主体(1)一侧设有真空吸腔(3),真空吸腔(3)最外围设有一圈圆形外围凸起(5),在真空吸腔(3)中心设有真空吸孔(2),真空吸孔(2)与外围凸起(5)间设有3~6个“C”型防碎凸起(4),所述防碎凸起(4)低于外围凸起(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种防碎真空吸笔头,包括吸笔头主体(1)、真空吸孔(2)、真空吸腔(3),其特征在于:吸笔头主体(1)呈圆盘状,在吸笔头主体(1)一侧设有真空吸腔(3),真空吸腔(3)最外围设有一圈圆形外围凸起(5),在真空吸腔(3)中心设有真空吸孔(2),真空吸孔(2)与外围凸起(5)间设有3~6个“C”型防碎凸起(4),所述防碎凸起(4)低于外围凸起(5)。
2.如权利要求1所述的一种防碎真空吸笔头,其特征在于:所述的吸笔头主体(1)直径为55mm~65mm。
3.如权利要求1所述的一种防碎真空吸笔头,其特征在于:所述的真空吸孔(2)直径为3mm~9mm。
4.如权利要求1所述的一种防碎真空吸笔头,其特征在于:所述的防碎凸起(4)的形状圆滑。
5.如权利要求1所述的一种防碎真空吸笔...
【专利技术属性】
技术研发人员:张璐,秦浩,乔旭,
申请(专利权)人:西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西;61
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