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无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置制造方法及图纸

技术编号:2603119 阅读:284 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置,吸收光谱测量系统检测Nd在YAG晶体轴向的分布梯度,由于晶体的圆柱形表面为毛面,有很大的散射损失,将晶体放在盛有折射率与Nd:YAG大致相同液体的玻璃池中,以便得到较准确的光谱吸收值,还用散射光谱测量系统测量散射损失,进行补偿。并将参考棒与被测棒作比较测量。可达到用少量的参考棒测量多批量的晶体,节省了材料和费用。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
掺钕钇铝石榴石(NotYAG)激光器是固体激光器中应用最广泛的一种激光器,如激光加工,焊接,切割,热处理,刻划,激光医疗以及军事上使用的激光测距,激光武器等方面。该激光器的发光物质为NotYAG,钕吸收泵浦光的能量,钕在YAG中分布不均匀时,由于吸收泵浦光的不均匀,而产生内应力使晶体炸坏,它对较大或最大输出功率的NotYAG激光器更为重要。目前国内外普遍采用破坏性的检测方法,即从NotYAG晶体上切下一块,汽化后用光谱方法来测量YAG中Nd的含量。如果在大块的毛坯上检测,它不能确切的反映每根NotYAG晶体棒的实际情况;如果在加工好的棒的上检测,经济损失太大,每根棒的价格非常昂贵。因此需要一种适用的无损检测方法,这里介绍的无损检测装置目前国内外还没有。本专利技术的目的在于针时现有技术的不足之处,提供一种无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的,该装置有电源部分,还包括a)一个用于吸收光谱测量的第一个半导体激光器1,该激光器的激光波长能被NotYAG激光晶体O吸收,半导体激光器1经第一个显微物镜3,衰减片5,反射镜9;b)一个用于散射光谱测量的第二个半导体激光器2,该激光器的激光波长应不被NotYAG激光晶体O吸收或吸收尽量小,半导体激光2经第二个显微物镜4,衰减片6,反射镜10和9;c)一个盛有折射率与NotYAG晶体大致相同的液体的玻璃池12,该盛有上述液体的样品池能浸入被测棒或已知掺钕浓度的参考棒;d)在玻璃池12与反射镜9之间设置一个防止杂散光进入测试光路的光栏11;e)一个会聚透过晶体的光强的聚光镜13;f)一个收集从聚光镜13来的光强的光电转换器15;g)半导体激光器1及2的电源18及19能对电流及温度调整和控制其稳定性。以下对实施例结合附图对专利技术进行详细说明附图说明图1本专利技术实施例的总图;图2本专利技术中玻璃池的结构简图这里检测Nd在YAG晶体轴向的分布梯度,采用激光光谱吸收比较法,由于晶体的圆柱形表面为毛面,光照射上后产生很大的散射损失。为了减少散射损失,将NdYAG晶体棒放入一个玻璃池子(12)内,池内放入液体,液体的折射率尽量与NdYAG晶体的折射率一致。NdYAG(NdY3A15o12)的折射率n=1.81633,其中掺钕约为1.0%对1.06μm波长而言。高折射率的化学液体例如采用碘化物(Diiodmethan),或采用折射率略低一些,但毒性甚小的液体,可从手册中选用。采用上述措施可以减少散射损失。这里采用的激光光谱吸收法,激光的输出光强,透过晶体仍有一部份被散射掉,这部份不容忽视,而对它必须进行补偿,以便得到较准确的吸收光谱值。为此需对NdYAG晶体进行散射光谱测量。散射光谱测量散射光谱测量选用的半导体激光器的波长应满足NdYAG晶体对该波长不吸收或尽量少吸收的要求。仪器结构示于图1。该激光经过显微物镜4,衰减片6,反射镜10及9,光栏11,通过NdYAG晶体的直径,透过晶体的光强由聚光镜13会聚在光电接收器14上,由此来计算散射损失。散射测量时应遮光器7将半导体激光1挡住。吸收光谱测量吸收光谱测量采用半导体激光器,其波长应在NdYAG晶体能吸收的波长中选用。半导体激光1经显微物镜3,衰减片5,反射镜9,光栏11,通过晶体直径及聚光镜13,由光电接收器14接收,并用示波器15或高精度毫伏表来测量。如果NdYAG晶体中钕的含量愈高,吸收光越多,则透过的光强愈弱。对散射损失要进行补偿。进行吸收光谱测量时,应将遮光7取走,并将遮光器8插入散射路中。为了获得相对掺钕浓度的比较值,采用了一个NdYAG参考棒,它的掺钕浓度用破坏性方法测得,如电子探针或激光光谱方法,被测棒与它进行比较。通过上面的测量可以计算出参考棒及被测棒的吸收系数αr及αp。根据掺钕浓度与吸收系数的比例关系得到下式N*PαP=N*rαr]]>N*r参考棒的掺钕浓度(用破坏性方法测得)N*p被测棒的掺钕浓度N*P= N*rαpαr]]>由此得到被测棒的掺钕浓度。在被测棒的轴向移动一定的距离(如5mm或10mm)测一值,便可得到钕在NdYAG晶体中轴向的分布梯度。激光晶体装入玻璃池内,其结构显示图2。玻璃池的两个玻璃面粘在不锈钢的框架上,不锈钢可防化学腐蚀。激光棒的两个端面用塞头加橡皮圈严格的保护好。以便晶体浸在液体中两端面不受损伤。玻璃池固定在小导轨上并可上下移动调准激光通过晶体棒的直径。小导轨又固定在大导轨上,并可垂直于激光光轴在水平方向移动,通过水平移动来测量晶体棒上不同位置钕的分布梯度。权利要求1.无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置,有电源部分(16、17),其特征在于包括a)一个用于吸收光谱测量的第一个半导体激光器1,该激光器的波长能被Nd∶YAG晶体(O)吸收,半导体激光器1经显微物镜3衰减片5,遮光器7,反射镜9;b)一个用于散射光谱测量的第二个半导体激光器2,该激光器的波长不被Nd∶YAG晶体吸收或吸收量尽量小,半导体激光2经过第二个显微镜4,衰减片6,遮光器(8),反光镜10及9;c)一个盛有折射率与Nd∶YAG晶体大致相同的液体的玻璃池(12),该盛有上述液体的样品池能浸入被测棒或已知掺钕浓度的参考棒;d)在玻璃池和反射镜(9)之间设置一个防止杂散光进入测试光路的光栏(11);e)一个会聚透过晶体光强的聚光镜(13);f)一个接收从聚光镜(13)来的光强的光电转换器(14);g)半导体激光器1及2的电源18及19能对电流及温度调整和控制其稳定性。2.根据权利要求1的装置,其特征在于,第二个半导体激光器可用氦氖激光器代替。3.根据权利要求1的装置,其特征在于,遮光器(8)位于散射光路时,激光(2)被遮住,遮光器(7)离开光路,进行吸收测量;当遮光器(7)插进光路,遮光器(8)离开光路,则进行散射测量。4.根据权利要求1的装置,其特征在于,玻璃池(12)中的液体是具有高折射率的碘化物(如Diiodmethan)。5.根据权利要求1的装置,其特征在于,玻璃池(12)固定在工作台上,玻璃池的长轴与激光(1)和(2)的光轴重直,工作台还可在被测棒和参考棒的横截面内作上下升降,用于调正激光通过晶体棒的直径,工作台在垂直于激光光轴方向作直线移动。6.根据权利要求1的装置,其特征在于,光电转换器是光电倍增管。7.根据权利要求1的装置,其特征在于,还包括一个高精度的毫伏表或示波器(15),用于测出光电转换器(14)输出的电信号。8.根据权利要求1的装置,其特征在于,已知掺钕浓度的参考棒是用于电子探针或激光光谱仪测得。全文摘要无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置,吸收光谱测量系统检测Nd在YAG晶体轴向的分布梯度,由于晶体的圆柱形表面为毛面,有很大的散射损失,将晶体放在盛有折射率与Nd:YAG大致相同液体的玻璃池中,以便得到较准确的光谱吸收值,还用散射光谱测量系统测量散射损失,进行补偿。并将参考棒与被测棒作比较测量。可达到用少量的参考棒测量多批量的晶体,节省了材料和费用。文档编号G01N21/39GK1095161SQ9410234公开日1994年11月16日 申请日期1994年3月21日 优先权日1994年3月21日专利技术者颜炳玉 申请人:颜炳玉本文档来自技高网...

【技术保护点】
无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置,有电源部分(16、17),其特征在于包括:a)一个用于吸收光谱测量的第一个半导体激光器1,该激光器的波长能被Nd∶YAG晶体(O)吸收,半导体激光器1经显微物镜3衰减片5,遮光器7,反射镜9 ;b)一个用于散射光谱测量的第二个半导体激光器2,该激光器的波长不被Nd∶YAG晶体吸收或吸收量尽量小,半导体激光2经过第二个显微镜4,衰减片6,遮光器(8),反光镜10及9;c)一个盛有折射率与Nd∶YAG晶体大致相同的液体的玻璃 池(12),该盛有上述液体的样品池能浸入被测棒或已知掺钕浓度的参考棒;d)在玻璃池和反射镜(9)之间设置一个防止杂散光进入测试光路的光栏(11);e)一个会聚透过晶体光强的聚光镜(13);f)一个接收从聚光镜(13)来的光强的光 电转换器(14);g)半导体激光器1及2的电源18及19能对电流及温度调整和控制其稳定性。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:颜炳玉
申请(专利权)人:颜炳玉
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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