被膜的制造方法和印刷布线板技术

本发明专利技术提供将感光性树脂组合物的涂膜曝光后进行显影而制造被膜时，被膜的形状可具有高分辨率的被膜的制造方法。被膜的制造方法包括由感光性树脂组合物形成涂膜，向涂膜照射光源发出的光而进行曝光，将曝光后的涂膜用碱性溶液进行显影。感光性树脂组合物含有含羧基树脂(A)、不饱和化合物(B)、光聚合引发剂(C)和环氧树脂(D)。对涂膜照射的光包含规定的波长的光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】被膜的制造方法和印刷布线板
本专利技术涉及被膜的制造方法和印刷布线板，更详细而言，涉及将含有感光性树脂组合物的涂膜曝光来制造被膜的方法以及具备该被膜的印刷布线板。
技术介绍
以往，为了形成印刷布线板的阻焊层、阻镀层、抗蚀层、层间绝缘层等电绝缘性的层而使用各种固化性的树脂组合物。对于感光性树脂组合物，通过照射紫外线等光使感光性树脂组合物固化，根据需要进行加热而形成电绝缘性的层。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2008－146044号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供将感光性树脂组合物的涂膜曝光后进行显影而制造被膜时，被膜的形状可具有高的分辨率的被膜的制造方法。另外，本专利技术的另一目的在于提供具备由上述的制造方法制造的被膜的印刷布线板。本专利技术的一个形态的被膜的制造方法包含如下工序：通过将感光性树脂组合物配置在基材上而在上述基材上形成涂膜的工序，向上述涂膜照射光源发出的光而进行曝光的工序，将上述曝光后的上述涂膜用碱性溶液进行显影的工序。上述感光性树脂组合物含有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种被膜的制造方法，包含如下工序：/n将感光性树脂组合物配置在基材上而在所述基材上形成涂膜的工序，/n向所述涂膜照射光源发出的光而进行曝光的工序，/n将所述曝光后的所述涂膜用碱性溶液进行显影的工序；/n所述感光性树脂组合物含有含羧基树脂(A)、一分子中具有至少一个烯键式不饱和键的不饱和化合物(B)、光聚合引发剂(C)和环氧树脂(D)，/n所述光聚合引发剂(C)的光的吸收光谱具有在350nm～370nm的波长范围内的第一吸收带和在大于370nm且415nm以下的波长范围内的第二吸收带，/n在所述进行曝光的工序中对涂膜照射的光包含第一光、第二光和第三光，/n所述第一光的波长区域在所述第一吸收带...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181109 JP 2018-2112581.一种被膜的制造方法，包含如下工序：
将感光性树脂组合物配置在基材上而在所述基材上形成涂膜的工序，
向所述涂膜照射光源发出的光而进行曝光的工序，
将所述曝光后的所述涂膜用碱性溶液进行显影的工序；
所述感光性树脂组合物含有含羧基树脂(A)、一分子中具有至少一个烯键式不饱和键的不饱和化合物(B)、光聚合引发剂(C)和环氧树脂(D)，
所述光聚合引发剂(C)的光的吸收光谱具有在350nm～370nm的波长范围内的第一吸收带和在大于370nm且415nm以下的波长范围内的第二吸收带，
在所述进行曝光的工序中对涂膜照射的光包含第一光、第二光和第三光，
所述第一光的波长区域在所述第一吸收带的波长范围内，
所述第二光的波长区域在所述第二吸收带的波长范围内，
所述第三光的波长区域在305nm～325nm的波长范围内，
向所述涂膜照射的光的光谱中，相对于200nm～500nm的波长范围的曲线下面积，在200nm以上且小于280nm的波长范围的曲线下面积和大于415nm且500nm以下的波长范围的曲线下面积的合计百分比为5％以下。


2.根据权利要求1所述的被膜的制造方法，其中，所述第二吸收带至少包含位于大于400nm且415nm以下的波长范围内的吸收带，
所述第二光至少包含大于400nm且415nm以下的波长区域的光。


3.根据权利要求1或2所述的被膜的制造方法，其中，所述光聚合引发剂(C)的光的吸收光谱进一步具有位于305nm～325nm的波长范围内的第三吸收带，
所述第三光的波长区域在所述第三吸收带的波长范围内。

【专利技术属性】
技术研发人员：樋口伦也，藤原勇佐，桥本壮一，荒井贵，冈崎伊佐央，柳贤悟，
申请(专利权)人：互应化学工业株式会社，株式会社清和光学制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP