光稳定性试验装置制造方法及图纸

为了能够进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射来实施正确的光稳定性试验，光稳定性试验装置中的光传感器包括测定可见光照射量的可见光测定用传感器（５）和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器（６），光学系统具有调节光源发出的光线的绝对量的全光调节装置（３３１）以及调节由全光调节装置调节过的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置（３３５），控制部具有根据来自可见光测定用传感器（５）的信号控制全光调节装置（３３１）的全光控制部和根据来自紫外线测定用传感器（６）的信号控制紫外线调节装置（３３５）的紫外线控制部。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种为试验药品等的光稳定性的光稳定性试验装置。
技术介绍
参照图8、图9、图10以及图11说明现有技术的光稳定性试验装置。 图8表示有关现有技术的第一光稳定性试验装置的主要部分的正视图。该光稳定性试验装置1是由光学系统3调节光源2发出的光线后照射载置在试料台4上的图中未画出的试料来试验试料的光稳定性的装置。光学系统3主要由第一反射镜31、光线调节装置33、作为光束控制装置的集成透镜35、第二反射镜37以及第3反射镜39构成。在将节流口状的石英棒捆成一束的上部贴上球面玻璃而构成集成透镜35。光线通过这里时石英棒成为一条一条小光源。这样，例如通过给定光阑的光束即使是长方形，也可以变成圆形的光束。 4是载置图中未画出的试料的试料台，在该试料台4上安装着为测定可见光照射量的可见光测定用传感器5和为测定紫外线的照射量的紫外线测定用传感器6。驱动装置7的驱动力可经转动轴71使试料台4转动。 在有关该现有技术的第一光稳定性试验装置1中，大类分为光源室8和试料室9，在上述构成中，光源2以及光学系统3中的第一反射镜31、光线调节装置33、光束控制装置的集成透镜35以及第二反射镜37设置在光源室8中，而光学系统3中的第3反射镜39以及试料台4设置在试料室9中。 图9表示具有上述构成的第一光稳定性试验装置1的详图。即，光学系统3中的光线调节装置33包括全光调节装置331的光阑以及紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片。全光调节装置331的光阑对可见光和紫外线的全部光量均进行调节控制，而紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片只控制光线中的紫外线(特别是远紫外线)。91是设置在试料室9中的石英玻璃制成的入射窗。使用氙灯作为光源2。 在具有上述构成的第一光稳定性试验装置1中，首先在试料台4上载置图中未画出的试料；然后，从光源2的氙灯发射出光线；该光线首先由第一反射镜35聚光，然后通过作为用来限制紫外线的紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片；然后，通过作为用来调节整体光量的可见光及紫外线的全部光量的全光调节装置331的光阑；然后，由光束控制装置的集成透镜35调整光线的方向；然后，由第二反射镜37将光线方向变成大致水平方向，通过石英玻璃制成的入射窗91入射到试料室9；然后，由第3反射镜39向下方反射，照射载置在试料台4上的图中未画出的试料上。为了持续长时间照射，能具有良好的照射分布，照射中，驱动装置7经转动轴71使试料台4转动，进行试料的光稳定性试验。 在上述照射中，将来自可见光测定用传感器5和紫外线测定用传感器6的任一方的信号传送到图中未画出的控制部，在该控制部进行运算后控制光量和时间。 另一方面，图10表示有关现有技术的第二光稳定性试验装置的主要部分的正视图。该第二光稳定性试验装置1与上述第一光稳定性试验装置不同，光源2采用荧光灯那样的管形光源，并且不具备大规模光学系统，而只有反射镜31。即，在该第二光稳定性试验装置1中，从光源2发出的光线直接照射到试料上。333是固定式紫外线调节装置，调节来自光源的紫外线量。 5是可见光测定用传感器，6是紫外线测定用传感器，安装在试料台4上。驱动装置7可经转动轴71使试料台4转动。 照射中，按照来自可见光测定用传感器5的信号调节光源2的光量。而紫外线测定用传感器6的测定值被累计记录。 但是，在有关现有技术的光稳定性试验装置1中，存在如下的问题。 图11表示太阳光、氙灯以及D65灯(东芝制FLR20S·D-EDL-D65/M)的光谱分布图。横轴表示波长，纵轴表示强度的相对值。如图11所示，氙灯以及D65灯这样的所谓与太阳光近似的光源的光谱分布，与太阳光的光谱分布相比较，紫外线部分过剩。一般，可见光在380nm到780nm的范围，是人眼可以实际看见的光。紫外光波长在200nm到380nm的范围，肉眼看不见。严格讲，该波长范围的光称为近紫外光，100nm到200nm范围的光称为远紫外光(「光测量手册」第572页，田幸敏治、辻内顺平、南茂夫编辑，1997年1月20日第二版发行)。 另一方面，在作为试料的医药品等的光稳定性试验中的日本厚生省的基准确定以太阳光为基准，具体地说，把累计照射量规定为可见光在1200kLxhr以上，紫外线在200whr/m2以上。 因此，在有关现有技术的光稳定性试验装置1中，在氙灯那样的紫外线过剩的光源2中，作为紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片为固定式滤光片，将紫外线量设定在上述规定值附近。 但是，在光稳定性试验长时间进行以及瞬时照射值选择1000Lx的情况下，也会达到1200小时。随着时间经过，光源2以及光学系统3出现劣化。而且，这种劣化倾向，与可见光相比，紫外线部分更严重，如果把上述紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片中的减光量设计到极限值，在可见光到达1200kLxhr时，紫外线就有可能不足，其结果是不能正确实施光稳定性试验。 另一方面，在上述第二光稳定性试验装置中，光源2等的劣化倾向在多个光源2之间存在差异，预测很困难。因此，通常设定得稍微过剩，光源2为新品时，可见光的累计照射量达到1200kLxhr时，让紫外线达到220到280whr/m2。实际上，对于药品等试料，紫外线影响比较大的情况更多，其结果是不能正确实施光稳定性试验。 为此，本专利技术正是为了解决上述问题的专利技术，其目的在于提供一种可以进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射来实施正确的光稳定性试验的光稳定性试验装置。 专利技术的公开为了达到上述目的，按照本专利技术的光稳定性试验装置具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、用来载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及接收来自该光传感器的信号并控制上述光学系统的控制部；上述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器；上述光学系统具有调节上述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置；上述控制部具有根据来自上述可见光测定用传感器的信号控制上述全光调节装置的全光控制部和根据来自上述紫外线测定用传感器的信号控制上述紫外线调节装置的紫外线控制部。在此，所谓「光线绝对量」是指包括可见光以及紫外光的全部照射量。 上述光学系统最好具有调节上述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节由上述全光调节装置调节过的光线的紫外线照射量的紫外线调节装置。 光学系统最好具有使紫外线路径与可见光路径不同的光线选别装置以及将紫外线与可见光合流的光线合流装置，上述紫外线调节装置调节经过上述光线选别装置的紫外线的照射量。 光线选别装置最好是分色镜。 光线合流装置最好是分色镜。 全光调节装置最好具有可以移动的多个滤光片。 多个滤光片最好是2个滤光片，并且可以对称地动作。 光学系统最好具有用来控制并改变光线的光束的截面形状的光束控制装置。 光束控制装置最好是集成透镜。 紫外线调节装置最好设置在调节经过上述光束控制装置的光线的紫外线照射量的位置上。 进一步，有关本专利技术的光稳定性试验装置具有光源、载置由该光源发出的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及接收来自该光传本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光稳定性试验装置，具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制所述光学系统的控制部；其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器；所述光学系统具有调节所述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置；所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述全光调节装置的全光控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-29 198878/011.一种光稳定性试验装置，具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及接收来自该光传感器的信号并控制所述光学系统的控制部，其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器；所述光学系统具有调节所述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置；所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述全光调节装置的全光控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。2.一种光稳定性试验装置，具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统后的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及接收来自该光传感器的信号并控制所述光学系统的控制部，其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器；所述光学系统具有调节所述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节由所述全光调节装置调节后的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置；所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述全光调节装置的全光控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。3.根据权利要求1或2所述的光稳定性试验装置，其特征在于，所述光学系统具有使紫外线路径和可见光线路径不同的光线选别装置以及将紫外线与可见光合流的光线合流装置，所述紫外线调节装置调节经过所述光线选别装置的紫外线的照射量。4.根据权利要求3所述的光稳定性试验装置，其特征在于所述光线选别装置是分色镜。5.根据权利要求3所述的光稳定性试验装置，其特征在于所述光线合流装置是分色镜。6.根据权利要求1或2所述的光稳定性试验装置，其特征在于所述全光调节装置具有可移动的多个滤光片。7.根据权利要求6所述的光稳定性试验装置，其特征在于所述多个滤光片是2个滤光片，可以对称动作。8.根据权利要求1或2所述的光稳定性试验装...

【专利技术属性】
技术研发人员：造田弘司，
申请(专利权)人：株式会社长野科学机械制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]