一种显示面板制造技术

本申请提供一种显示面板，包括：衬底基板；薄膜晶体管阵列层，位于衬底基板上；发光器件层，位于薄膜晶体管阵列层上；遮光层，位于发光器件层上，遮光层对应发光器件层的发光区域的位置设置有开口；有机保护层，位于遮光层上；其中，遮光层的开口处填充有机保护层，有机保护层为透明材质。本申请通过去除传统的红、绿、蓝色阻对显示面板发光区域的覆盖，提升遮光层的面积占比，从而降低光刻法去偏光片技术的光罩数量，解决彩膜功能层在多次湿法蚀刻制程中会带来彩膜功能层的良率降低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板
本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示面板。
技术介绍
偏光片(POL)能够有效地降低强光下面板的反射率，却损失了接近58％的出光，这对于OLED来说，极大地增加了其寿命负担；另一方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折产品的开发。使用彩膜(ColorFilter)替代偏光片(POL)被归属为POL-less技术，彩膜基本结构包括红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)色阻以及黑色矩阵(BM)；基于OLED自发光的特点，色阻需要分别与OLED的红、绿和蓝子像素单元对应，形成彩膜功能层。但是，彩膜功能层需要经过多次光刻，在多次湿法蚀刻制程中会带来彩膜功能层的良率降低问题。因此，现有技术存在缺陷，急需解决。
技术实现思路
本申请提供一种显示面板，能够解决彩膜功能层在多次湿法蚀刻制程中会带来彩膜功能层的良率降低问题。为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：本申请提供一种显示面板，包括：衬底基板；薄膜晶体管阵列层，位于所述衬底基板上；发光器件层，位于所述薄膜晶体管阵列层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n薄膜晶体管阵列层，位于所述衬底基板上；/n发光器件层，位于所述薄膜晶体管阵列层上；/n遮光层，位于所述发光器件层上，所述遮光层对应所述发光器件层的发光区域的位置设置有开口；/n有机保护层，位于所述遮光层上；/n其中，所述遮光层的开口处填充有所述有机保护层，所述有机保护层为透明材质。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
薄膜晶体管阵列层，位于所述衬底基板上；
发光器件层，位于所述薄膜晶体管阵列层上；
遮光层，位于所述发光器件层上，所述遮光层对应所述发光器件层的发光区域的位置设置有开口；
有机保护层，位于所述遮光层上；
其中，所述遮光层的开口处填充有所述有机保护层，所述有机保护层为透明材质。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件层包括间隔分布的发光器件，所述发光器件包括层叠设置的阳极、发光层、阴极，所述发光器件层与所述遮光层之间还设置有薄膜封装层，所述薄膜封装层包括层叠设置的无机层与有机层。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阴极靠近所述发光层的一侧和/或所述阴极远离所述发光层的一侧设置有光吸收介质层，所述光吸收介质层的吸光范围为300nm至800nm之间。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述光吸收介质层位于所述薄膜封装层上，并且对应所述遮光层的开口处设置。


5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述光吸收介质层包括碳六十、氯化亚酞菁硼、酞菁铅中的至少一种材料形...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈泽升，赵勇，鲜于文旭，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42