无焦点检查装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种无焦点检查装置，包括：结构光源，其依次照射具有一个相位范围的多个结构光；至少一个透镜，其针对所述多个结构光，分别调整与所述相位范围中各个相位对应的光的路径，使得与所述相位范围中的一个相位对应的光到达对象体上一部分区域的各点；图像传感器，其捕获(capture)所述多个结构光分别从所述一部分区域反射而生成的多个反射光；及处理器，其与所述结构光源、所述至少一个透镜及所述图像传感器电气连接；所述处理器可以从所述图像传感器获得关于所述多个反射光各自的光量值，以关于所述多个反射光各自的光量值为基础，导出所述多个反射光的相位值，导出所述对象体表面的角度。

【技术实现步骤摘要】
无焦点检查装置
本技术涉及无焦点(Focus-less)检查装置。
技术介绍
在半导体的制造工序中，进行有关对半导体的各种处理、工序等是否适当地执行的多样检查。例如，可以执行有关在半导体基板上安装的晶片(die)等元件是否位于半导体基板上应位于之处等的检查。特别是就贴装于半导体基板的晶片而言，可以执行有关贴装的晶片与基板之间有无倾斜(tilt)的检查。一般而言，在基板上涂覆有焊料或焊料球的状态下，晶片可以贴装于焊料或焊料球上部。此时，晶片的下面应与半导体基板的基准面平行地贴装，但由于既定原因(例如焊料或焊料球的涂覆状态)，晶片也可以以相对于半导体基板倾斜既定角度以上的形态贴装。这是可能引发半导体装置不良的要素，因而在对半导体的检查过程中，应能够确认晶片是否倾斜，如果倾斜，那么倾斜何种角度以上。另外，也可以与基板中的贴装无关地执行对任意一个对象体表面的检查。在该检查过程中，需要确认对象体表面的曲折具有的角度。对象体表面根据对象体的形态，会具有大大小小的凹凸。这些凹凸既可能是因为制作上的缺陷而产生的，也可能是设计上有意形成的。需要测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无焦点检查装置，其中，包括：/n结构光源，其依次照射具有一个相位范围的多个结构光；/n至少一个透镜，其针对所述多个结构光，分别调整与所述相位范围中各个相位对应的光的路径，使得与所述相位范围中的一个相位对应的光到达对象体表面上一部分区域的各点；/n图像传感器，其捕获所述多个结构光分别从所述一部分区域反射而生成的多个反射光；及/n处理器，其与所述结构光源、所述至少一个透镜及所述图像传感器电气连接；/n所述处理器从所述图像传感器获得关于所述多个反射光各自的光量值，/n以关于所述多个反射光各自的光量值为基础，导出所述多个反射光的相位值，导出所述对象体表面相对于基准面的角度。/n

【技术特征摘要】
20181015 KR 10-2018-0122354;20181212 KR 10-2018-011.一种无焦点检查装置，其中，包括：
结构光源，其依次照射具有一个相位范围的多个结构光；
至少一个透镜，其针对所述多个结构光，分别调整与所述相位范围中各个相位对应的光的路径，使得与所述相位范围中的一个相位对应的光到达对象体表面上一部分区域的各点；
图像传感器，其捕获所述多个结构光分别从所述一部分区域反射而生成的多个反射光；及
处理器，其与所述结构光源、所述至少一个透镜及所述图像传感器电气连接；
所述处理器从所述图像传感器获得关于所述多个反射光各自的光量值，
以关于所述多个反射光各自的光量值为基础，导出所述多个反射光的相位值，导出所述对象体表面相对于基准面的角度。


2.根据权利要求1所述的无焦点检查装置，其中，还包括：
存储器，其存储显示所述对象体表面的角度及所述多个反射光的相位值之间的关系的关联信息，与所述处理器电气连接。


3.根据权利要求2所述的无焦点检查装置，其中，
所述处理器基于所述多个反射光的相位值及从所述存储器获得的所述关联信息，导出所述对象体表面的角度。


4.根据权利要求1所述的无焦点检查装置，其中，
所述相位范围并非所述结构光的周期的整数倍。


5.根据权利要求4所述的无焦点检查装置，其中，
所述相位范围大于与所述结构光的半周期相应的相位范围，小于与所述结构光的一个周期相应的相位范围。


6.根据权利要求1所述的无焦点检查装置，其中，
还包括：第一光束分离器，其位于与所述基准面垂直的第一轴上，调整路径而使得从所述结构光源照射的所述多个结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：李撰权，全文营，许贞，洪德和，赵银河，
申请(专利权)人：株式会社高迎科技，
类型：新型
国别省市：韩国;KR