一种等离子刻蚀机制造技术

本实用新型专利技术提出了一种等离子刻蚀机，该等离子刻蚀机包括一刻蚀腔体和一加热板；刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；加热板固定在一屏蔽罩内；屏蔽罩的下端敞开；屏蔽罩位于刻蚀腔体的上方且固定在刻蚀腔体上；加热板固定在陶瓷介质窗朝向等离子体耦合线圈的表面；加热板上开设用于供等离子体穿过的预留间隙；加热板通过一供电电路连接一加热电源。本实用新型专利技术将加热板直接贴合在陶瓷介质窗上，通过对加热板通电以对陶瓷介质窗直接进行加热。因此加热板的加热效率高，热量散失少，避免屏蔽罩的过热现象，无需在屏蔽罩外增设保护罩。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子刻蚀机
本技术属于机械加工设备
，尤其涉及一种等离子刻蚀机。
技术介绍
等离子刻蚀机，通过向真空刻蚀机腔体内引入含有适当刻蚀剂或淀积源气体的反应气体，然后再对该刻蚀机腔体施加射频能量，以解离反应气体生成等离子体，用来对放置于刻蚀机腔体内的基片表面进行加工。等离子刻蚀机设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。刻蚀腔的主要组成部分有：等离子体耦合线圈、陶瓷介质窗、ICP射频单元、RF射频单元、下电极系统、温控系统等组成。其中等离子体耦合线圈位于腔室的上方真空外，陶瓷介质窗位于腔室和等离子体耦合线圈之间，陶瓷介质窗既能密封真空又不影响等离子体穿过进入腔体，但在等离子体刻蚀的过程中，刻蚀出的产物会沉积到陶瓷介质窗上，长时间沉积会对等离子体产生不利影响，也可能会产生颗粒影响刻蚀过程。通常，陶瓷介质窗加热是减少沉积的重要手段。目前，现有等离子体刻蚀机陶瓷介质窗加热有采用风暖加热的方式，但这种加热方式由于暖风四散加热效率低，而且容易使陶瓷介质窗以外的侧壁也产生高温，容易使操作者烫伤、元器件易损等问题，需要使用很复杂的保护装置，成本高又本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子刻蚀机，包括一刻蚀腔体和一加热板；所述刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；所述陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；所述加热板固定在一屏蔽罩内；所述屏蔽罩的下端敞开；所述屏蔽罩位于所述刻蚀腔体的上方且固定在所述刻蚀腔体上；其特征在于：/n所述加热板固定在所述陶瓷介质窗朝向所述等离子体耦合线圈的表面；所述加热板上开设用于供所述等离子体穿过的预留间隙；所述加热板通过一供电电路连接一加热电源。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机，包括一刻蚀腔体和一加热板；所述刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；所述陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；所述加热板固定在一屏蔽罩内；所述屏蔽罩的下端敞开；所述屏蔽罩位于所述刻蚀腔体的上方且固定在所述刻蚀腔体上；其特征在于：
所述加热板固定在所述陶瓷介质窗朝向所述等离子体耦合线圈的表面；所述加热板上开设用于供所述等离子体穿过的预留间隙；所述加热板通过一供电电路连接一加热电源。


2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀机，其特征在于，所述陶瓷介质窗的上段固定在所述屏蔽罩内。


3.根据权利要求1所述的等离子刻蚀机，其特征在于，所述加热板为圆形；所述加热板包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭颂，刘海洋，王铖熠，李娜，刘小波，张军，胡冬冬，许开东，
申请(专利权)人：北京鲁汶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11