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本实用新型提出了一种等离子刻蚀机，该等离子刻蚀机包括一刻蚀腔体和一加热板；刻蚀腔体的敞开端固定一陶瓷介质窗；陶瓷介质窗的上方固定一产生等离子体的等离子体耦合线圈；加热板固定在一屏蔽罩内；屏蔽罩的下端敞开；屏蔽罩位于刻蚀腔体的上方且固定在刻蚀...
该专利属于北京鲁汶半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京鲁汶半导体科技有限公司授权不得商用。

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