一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备制造技术

本实用新型专利技术旨在提供一种工作效率高、成本较低且兼具腐蚀及清洗功能的用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。本实用新型专利技术包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。本实用新型专利技术应用于生产设备的技术领域。

【技术实现步骤摘要】
一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备
本技术应用于生产设备的
，特别涉及到一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。
技术介绍
石英谐振器中的石英晶体的生产的过程中，石英晶体在经过切割、研磨等工序后，会在石英晶体的表面产生一定厚度的破坏层，其破坏层会加大石英晶体谐振器动能量的损耗，从而导致石英晶体谐振器的谐振电阻增大。制成石英谐振器后，还会由于石英碎屑的脱落，导致石英谐振器的频率漂移或者电极不牢等问题。因此，石英晶体必须进行均匀腐蚀，以清除破坏层，改善晶片表面状态，进而大大降低谐振器电阻和老化率等电性能参数，提高石英晶体谐振器的生产合格率。传统的方法是将石英晶体放在晶体篮里，然后放在腐蚀液池中，摇动腐蚀篮对晶体进行腐蚀，腐蚀完后再把晶体篮放在清洗池中，摇动进行清洗。现有技术中都是采用人工操作的形式，用手拿晶体篮，手动摇动进行清洗，使用这种方式不仅工人劳动强度大，人工成本高，而且生产效率低。为了解决这个问题，需要一种既能对石英晶体进行腐蚀，同时还兼备清洗功能的设备。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种工作效率高、成本较低且兼具腐蚀及清洗功能的用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。本技术所采用的技术方案是：本技术包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。进一步地，所述摇摆机构包括设置在所述升降装置上的驱动电机和固定架，所述固定架位于所述驱动电机的前侧，所述固定架的上端设置有固定横板，所述固定横板的上端面设置有固定件，所述固定横板的下方设置有与所述固定件相配合的凸轮，所述凸轮转动设置在所述固定件的下端，所述驱动电机的输出轴上设置有圆轮，所述圆轮上铰接有连杆，所述连杆远离所述圆轮的一端与所述凸轮的凸段相铰接，所述连接叉杆的上端固定设置在所述凸轮上。进一步地，所述回转模组包括底板，所述底板上设置有左链轮和右链轮，所述左链轮和所述右链轮上配合设置有传动链，所述摇摆浸泡机构固定设置在所述传动链上，所述左链轮和所述右链轮之间设置有驱动装置，所述驱动装置与所述左链轮和所述右链轮传动配合。进一步地，所述传动链的两侧均设置有回转导轨，所述底板上沿所述传动链的投影设置有若干根支撑柱，所述回转导轨设置在所述支撑柱上，所述传动链上固定设置有若干个安装板，所述安装板与所述回转导轨相配合，所述摇摆浸泡机构设置在所述安装板上。进一步地，所述回转导轨上设置有若干个转轮，所述转轮与所述安装板相配合。进一步地，所述腐蚀池的数量为两个且分别设置在所述回转模组的前后两侧。进一步地，所述清洗池的上端环绕设置有四道首尾相连的水槽，至少有一道所述水槽上设置有排水孔，所述排水孔与设置在所述清洗池下端的排水口相连通。进一步地，所述清洗池内设置有加温器。进一步地，所述腐蚀池上设置有四张防护板，靠近所述摇摆浸泡机构的所述防护板上设置有配合口。进一步地，所述载物框的框面为筛网结构。本技术的有益效果是：由于本技术采用了包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。与现有的技术相比，本技术具有以下特点：本技术通过设置回转模组，再在回转模组的一侧设置有腐蚀池和清洗池，摇摆浸泡机构设置在回转模组上，跟随回转模组做回转运动，并且摇摆浸泡机构包括有用于装载石英晶体的载物框，载物框与腐蚀池和清洗池配合实现石英晶体的腐蚀和清洗，由于腐蚀池和清洗池排序设置，因此可以在腐蚀工作完成后再进行清洗工作；由上述可见，本技术兼具腐蚀及清洗功能，实现流水线式的腐蚀和清洗工作，工作效率高，可减少操作工人的数量，节省成本。附图说明图1是本技术第一视角的平面布局图；图2是本技术回转模组和摇摆机构配合的第二视角的平面布局图；图3是图1中A部分的放大图；图4是本技术凸轮和圆轮的配合关系的示意图；图5是本技术清洗池的第一视角的平面结构示意图；图6是本技术腐蚀池的立体示意图；图7是图3中B部分的放大图。具体实施方式如图1至图7所示，本技术的具体实施方式是：本技术包括回转模组1，沿着所述回转模组1的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池2和若干个清洗池3，所述回转模组1上设置有若干个与所述腐蚀池2和所述清洗池3相配合的摇摆浸泡机构4，所述摇摆浸泡机构4包括升降装置41，所述升降装置41的动作端上设置有摇摆机构42，所述摇摆机构42的活动端上设置有连接叉杆43，所述连接叉杆43位于所述腐蚀池2或所述清洗池3的上方，所述连接叉杆43上设置有载物框44，所述载物框44与所述腐蚀池2或所述清洗池3相配合。所述回转模组1作回转运动，用于带动设置在其结构上的所述摇摆浸泡机构4进行回转；所述腐蚀池2用于石英晶体的腐蚀，装载腐蚀液体，为腐蚀工作的场所，所述清洗池用于装载清洁用液体，为清洗工作的场所；所述摇摆浸泡机构4主要包括所述升降装置41、所述摇摆机构42、所述连接叉杆43和所述载物框44，所述升降装置41用于带动设置在其动作端上的其它机构进行上下动作，实现产品的上下冲洗；所述摇摆机构42用于驱动所述连接叉杆43进行来回摆动，以带动所述载物框44进行摆动清洗，所述载物框44用于盛放石英晶体。本技术的工作原理为：将石英晶体放置在位于与腐蚀池2相对应的载物框44上，随后升降装置41下降直至载物框44被腐蚀池2内的腐蚀液体完全浸泡，随后摇摆机构42驱动使载物框44来回摇摆且同时升降装置41进行下上往复动作，每次向上时载物框44不露出腐蚀液体的液面，当完成腐蚀工作后，升降装置41将载物框44带离腐蚀池2然后回转模组1动作将已完成浸泡工作的石英晶体移动至第一个清洗池3的上方，然后再在移到腐蚀池2上方的新的载物框44放置石英晶体，随后已完成浸泡工作的载物框44与清洗池3配合进行清洗工作，未进行浸泡工作的载物框44与腐蚀池2进行腐蚀工作，整个工作流程如上述循环，且清洗次数与清洗池3的数量一致，当载物框44在最后一个清洗池3完成清洗时，整个腐蚀清洗工作完成，可将该载物框44中的石英晶体取出，并且此时该载物框44已经回转一圈，即该载物框44再移动一次就到达腐蚀池1的上方，因此在取出石英晶体后马上又放入新的石英晶体，以实现循环工作。由上述可见，本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：包括回转模组（1），沿着所述回转模组（1）的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池（2）和若干个清洗池（3），所述回转模组（1）上设置有若干个与所述腐蚀池（2）和所述清洗池（3）相配合的摇摆浸泡机构（4），所述摇摆浸泡机构（4）包括升降装置（41），所述升降装置（41）的动作端上设置有摇摆机构（42），所述摇摆机构（42）的活动端上设置有连接叉杆（43），所述连接叉杆（43）位于所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）的上方，所述连接叉杆（43）上设置有载物框（44），所述载物框（44）与所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）相配合。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：包括回转模组（1），沿着所述回转模组（1）的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池（2）和若干个清洗池（3），所述回转模组（1）上设置有若干个与所述腐蚀池（2）和所述清洗池（3）相配合的摇摆浸泡机构（4），所述摇摆浸泡机构（4）包括升降装置（41），所述升降装置（41）的动作端上设置有摇摆机构（42），所述摇摆机构（42）的活动端上设置有连接叉杆（43），所述连接叉杆（43）位于所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）的上方，所述连接叉杆（43）上设置有载物框（44），所述载物框（44）与所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）相配合。


2.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述摇摆机构（42）包括设置在所述升降装置（41）上的驱动电机（421）和固定架（422），所述固定架（422）位于所述驱动电机（421）的前侧，所述固定架（422）的上端设置有固定横板（423），所述固定横板（423）的上端面设置有固定件（424），所述固定横板（423）的下方设置有与所述固定件（424）相配合的凸轮（425），所述凸轮（425）转动设置在所述固定件（424）的下端，所述驱动电机（421）的输出轴上设置有圆轮（426），所述圆轮（426）上铰接有连杆（427），所述连杆（427）远离所述圆轮（426）的一端与所述凸轮（425）的凸段相铰接，所述连接叉杆（43）的上端固定设置在所述凸轮（425）上。


3.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述回转模组（1）包括底板（11），所述底板（11）上设置有左链轮（12）和右链轮（13），所述左链轮（12）和所述右链轮（13）上配合设置有传动链（14），所述摇摆浸泡机构（4）固定设置在所述传动链（14）上，所述左链轮（12）和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兴波，
申请(专利权)人：珠海东锦石英科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44