【技术实现步骤摘要】
一种更换动态气体锁的装置
本专利技术涉及集成电路制造及光刻
，特别是涉及一种可在高真空腔内更换动态气体锁的装置。
技术介绍
在例如极紫外光曝光过程中，物镜系统及照明系统一直处于高真空环境中，目的是为了防止各种污染，包括材料在真空环境表面脱吸附以及放气所带来的污染。为了抑制污染物对高真空环境的影响，特别是硅片表面的光刻胶在紫外光下产生光化学反应时，产生的对光学元件有污染的气体对高真空环境的影响，其中的一种解决方法是采用被称作动态气体锁的装置：一层能够透射极紫外光，并阻挡其他波段辐射和放气的薄膜。如图1所示，其显示一种极紫外光刻机系统内部结构。动态气体锁设置在工件台上方的测量支架上，光线通过动态气体锁的薄膜照射到工件台1上的硅片上进行曝光。在动态气体锁薄膜的上下方还有氢气流通，以进一步阻挡硅片表面光刻胶的放气，如图2所示。近几年，动态气体锁在极紫外技术中投入量产使用，并得到验证。然而，由于动态气体锁是薄膜，极容易被污染甚至受损，因而要求定期更换。但是，更换此动态气体锁不仅费时(需要真...
【技术保护点】
1.一种更换动态气体锁的装置，其特征在于，包括：/n储存盘，移动设于测量支架与工件台之间，所述储存盘上设有第一安装单元，所述第一安装单元用于吸附动态气体锁以存放，或者脱吸附以释放；所述测量支架上设有第二安装单元，所述第二安装单元用于吸附所述储存盘上被释放的所述动态气体锁以安装，或者脱吸附以拆卸；/n移动机构，用于根据指令将所述储存盘及其存放的所述动态气体锁移动并定位至所述第二安装单元下方；/n控制单元，用于指令所述移动机构移动，以及控制所述第一安装单元和所述第二安装单元对所述动态气体锁的吸附或脱吸附。/n
【技术特征摘要】
1.一种更换动态气体锁的装置，其特征在于，包括：
储存盘，移动设于测量支架与工件台之间，所述储存盘上设有第一安装单元，所述第一安装单元用于吸附动态气体锁以存放，或者脱吸附以释放；所述测量支架上设有第二安装单元，所述第二安装单元用于吸附所述储存盘上被释放的所述动态气体锁以安装，或者脱吸附以拆卸；
移动机构，用于根据指令将所述储存盘及其存放的所述动态气体锁移动并定位至所述第二安装单元下方；
控制单元，用于指令所述移动机构移动，以及控制所述第一安装单元和所述第二安装单元对所述动态气体锁的吸附或脱吸附。
2.根据权利要求1所述的更换动态气体锁的装置，其特征在于，所述储存盘上设有多个所述第一安装单元，每个所述第一安装单元用于存放一个所述动态气体锁，所述移动机构用于将其中的任意一个所述第一安装单元定位至所述第二安装单元下方。
3.根据权利要求2所述的更换动态气体锁的装置，其特征在于，所述储存盘为转盘，各所述第一安装单元沿所述转盘的转动半径设于所述储存盘的表面上。
4.根据权利要求1-3任一所述的更换动态气体锁的装置，其特征在于，所述第一安装单元...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾峥，伍强，李艳丽，
申请(专利权)人：上海集成电路研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。