单粒子束刻蚀薄膜的单纳米孔制作方法技术

技术编号:2582340 阅读:244 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种单粒子束刻蚀薄膜的单纳米孔制作方法,属于纳米技术领域。本发明专利技术将固体绝缘薄膜置于带有粒子检测装置的一个可水平旋转的载体上,用单粒子束刻蚀该薄膜,单粒子束入射角大于等于9.6°、小于等于90°,并且单粒子束在该薄膜底部、顶部、或二者之间与薄膜旋转轴交叉,待单粒子束完全穿透该薄膜后,固体绝缘薄膜底部的粒子监测器反馈使该薄膜被穿透处与单粒子束相对移动1*,再刻蚀,如此反复,直至固体绝缘薄膜旋转一周,获得圆台形、双倒圆台形或圆筒形的单纳米孔。本发明专利技术方法制备的单纳米孔,孔径在1个nm级可控,孔深在从*级到μm级可控,适于分辨单链DNA或RNA分子的碱基组分和检测双链DNA分子的大小,为核酸测序提供了关键器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种纳米孔的制备方法,特别涉及一种。属于纳米

技术介绍
生物的原生质体膜上存在着天然的蛋白质孔洞,可以进行细胞内和细胞外的离子交换,用膜片钳能够检测离子流动情况,用α溶血素侵染双脂膜形成一种两侧不对称的蛋白质纳米孔,也可用于离子流的检测,但更多的是用于核酸和单链脱氧核酸(统称核酸)穿孔的动力学研究,检测核酸分子片段的大小,还有测定它们碱基序列的潜力,但由于这种纳米孔是蛋白质在双脂膜上形成的孔,容易老化、不能耐受较高的电压、通透性受pH和盐浓度影响较大、还可能存在与核酸互作用位点,在有效的电场强度下,核酸通过纳米孔的速度太快,超出了当前膜片钳的分辨率,虽然通过调节电泳液组分等已将核酸的穿孔速度降至3nt/微秒,但仍超出了仪器分辨率3个数量级,这些都使纳米孔测序变得复杂化。为了克服蛋白孔存在的天然缺陷,人们用离子束、电子束刻蚀或溅射、重离子穿孔后再进行化学蚀刻、聚合物薄膜扎孔以及低密度商业膜内镀等方法制备固体膜,但纳米孔的三维尺度不可控,很不规则,所以如何制作尺度可控的纳米孔,成了提高检测带电分子电信号准确性的关键。但在以往采用固体纳米孔对核酸链直接测序研究中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单粒子束刻蚀薄膜的单纳米孔制作方法,其特征在于,所述方法具体为:将固体绝缘薄膜置于带有粒子检测装置的一个可水平旋转的载体上,用单粒子束刻蚀固体绝缘薄膜,单粒子束入射角大于等于9.6°、小于等于90°,并且单粒子束在该薄膜底部、顶部、或二者之间与固体绝缘薄膜旋转轴交叉,待单粒子束完全穿透该薄膜后,固体绝缘薄膜底部的粒子监测器反馈使载体旋转一次,使固体绝缘薄膜被穿透处与单粒子束相对移动1*,再刻蚀,如此反复,直至固体绝缘薄膜旋转一周,获得单纳米孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王志民
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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