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一种单粒子束刻蚀薄膜的单纳米孔制作方法，属于纳米技术领域。本发明将固体绝缘薄膜置于带有粒子检测装置的一个可水平旋转的载体上，用单粒子束刻蚀该薄膜，单粒子束入射角大于等于９．６°、小于等于９０°，并且单粒子束在该薄膜底部、顶部、或二者之间与薄...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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