一种显示装置制程方法和显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供一种显示装置制程方法和显示装置，本申请实施例所提供的显示装置制程方法，首先提供一柔性基板，所述柔性基板具有相对设置的第一面和第二面，在所述第一面沉积无机层；在所述无机层远离所述柔性基板的一面设有缓冲层，在所述缓冲层远离所述柔性基板的一面设有有源层；在所述有源层远离所述柔性基板的一侧沉积第一栅极绝缘层，在所述第一栅极绝缘层远离所述柔性基板的一面设有第一栅极层，通过半色调掩膜板在进行曝光，其中，所述半色调掩膜板包括不透光区域，半透光区域以及透光区域，其中，所述不透光区域对应第一栅极层，所述透光区域对应深孔区域。本申请可以减少工序，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置制程方法和显示装置
本申请涉及显示
，具体涉及一种显示装置制程方法和显示装置。
技术介绍
有机电致发光显示装置(OLED)以其低功耗、高饱和度、快响应时间及宽视角等独特优势逐渐成为显示领域的主流技术，未来在车载、手机、平板、电脑及电视产品上具有广阔的应用空间。目前主流的有机电致发光显示装置制程工艺都比较复杂，因此，提供能够减少工序的显示装置成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本申请实施例提供一种显示装置制程方法和显示装置，能够降低显示装置的制程工序。本申请提供一种显示装置的制程工艺，包括：提供一柔性基板，所述柔性基板具有相对设置的第一面和第二面；在所述第一面沉积无机层；在所述无机层远离所述柔性基板的一面设有缓冲层；在所述缓冲层远离所述柔性基板的一面设有有源层；在所述有源层远离所述柔性基板的一侧沉积第一栅极绝缘层；在所述第一栅极绝缘层远离所述柔性基板的一面设有第一栅极层；通过半色调掩膜板在进行曝光，其中，所述半色调掩膜板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置的制程工艺，其特征在于，包括：/n提供一柔性基板，所述柔性基板具有相对设置的第一面和第二面；/n在所述第一面沉积无机层；/n在所述无机层远离所述柔性基板的一面设有缓冲层；/n在所述缓冲层远离所述柔性基板的一面设有有源层；/n在所述有源层远离所述柔性基板的一侧沉积第一栅极绝缘层；/n在所述第一栅极绝缘层远离所述柔性基板的一面设有第一栅极层；/n通过半色调掩膜板在进行曝光，其中，所述半色调掩膜板包括不透光区域，半透光区域以及透光区域，其中，所述不透光区域对应第一栅极层，所述透光区域对应深孔区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示装置的制程工艺，其特征在于，包括：
提供一柔性基板，所述柔性基板具有相对设置的第一面和第二面；
在所述第一面沉积无机层；
在所述无机层远离所述柔性基板的一面设有缓冲层；
在所述缓冲层远离所述柔性基板的一面设有有源层；
在所述有源层远离所述柔性基板的一侧沉积第一栅极绝缘层；
在所述第一栅极绝缘层远离所述柔性基板的一面设有第一栅极层；
通过半色调掩膜板在进行曝光，其中，所述半色调掩膜板包括不透光区域，半透光区域以及透光区域，其中，所述不透光区域对应第一栅极层，所述透光区域对应深孔区域。


2.根据权利要求1所述的显示装置的制程工艺，其特征在于，所述通过半色调掩膜板在进行曝光之后，包括：
在所述第一栅极层远离所述柔性基板的一侧进行蚀刻以形成第一深孔，所述第一深孔从第一栅极层表面延伸至所述无机层。


3.根据权利要求2所述的显示装置的制程工艺，其特征在于，所述在所述第一栅极层远离所述柔性基板的一侧进行蚀刻以形成第一深孔之后，包括：
在所述第一栅极层远离所述柔性基板的一面设有第二栅极绝缘层；
在所述第二栅极绝缘层远离所述柔性基板的一面设有第二栅极层；
在所述第二栅极层远离所述柔性基板的一面设有介电层，所述介电层覆盖所述第二栅极层。


4.根据权利要求3所述的显示装置的制程工艺，其特征在于，所述在所述第二栅极层远离所述柔性基板的一面设有介电层之后，包括：
在所述介电层远离所述柔性基板的一面进行第一光罩以形成第二深孔，所述第二深孔从所述介电层表面延伸至所述缓冲层表面。
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【专利技术属性】
技术研发人员：方亮，戴超，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44