一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置制造方法及图纸

本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中制备方法包括：提供基板，在基板上形成薄膜晶体管，薄膜晶体管包括漏极；采用第一构图工艺，在漏极背离基板的一侧形成钝化层，钝化层上设置有第一过孔，以使部分漏极裸露；在钝化层背离基板的一侧依次形成平坦层和电极层，电极层与漏极通过第一过孔以及设置在平坦层上的第二过孔连接。本申请在平坦层的成膜工艺之前，优先采用构图工艺对钝化层开孔，与现有技术相比，本方案可以降低钝化层的干刻难度，减少钝化层干刻不良，提升产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
有机电致发光显示面板(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，逐渐成为显示领域的主流，可以广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。目前OLED产品的薄膜晶体管在制备过程中，钝化层(PVX)等膜层都需要采用干刻工艺，目前的OLED显示产品存在多种与干刻工艺相关的不良，比如PRRemain、Mura不良、过刻导致的SOG/Resin膜层损坏以及ITO膜层点不良，等等。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，以提升产品良品率。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种显示基板的制备方法，所述制备方法包括：提供基板；在所述基板上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括漏极；采用第一构图工艺，在所述漏极背离所述基板的一侧形成钝化层，所述钝化层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：/n提供基板；/n在所述基板上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括漏极；/n采用第一构图工艺，在所述漏极背离所述基板的一侧形成钝化层，所述钝化层上设置有第一过孔，以使部分漏极裸露；/n在所述钝化层背离所述基板的一侧依次形成平坦层和电极层，所述电极层与所述漏极通过所述第一过孔以及设置在所述平坦层上的第二过孔连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供基板；
在所述基板上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括漏极；
采用第一构图工艺，在所述漏极背离所述基板的一侧形成钝化层，所述钝化层上设置有第一过孔，以使部分漏极裸露；
在所述钝化层背离所述基板的一侧依次形成平坦层和电极层，所述电极层与所述漏极通过所述第一过孔以及设置在所述平坦层上的第二过孔连接。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述漏极背离所述基板的一侧形成钝化层的步骤之后，还包括：
采用第二构图工艺，在所述钝化层和裸露的漏极背离所述基板的一侧形成导电胶层，所述导电胶层填充所述第一过孔；
所述在所述钝化层背离所述基板的一侧依次形成平坦层和电极层，所述电极层与所述漏极通过所述第一过孔以及设置在所述平坦层上的第二过孔连接的步骤，包括：
采用第三构图工艺，在所述钝化层和所述导电胶层背离所述基板的一侧形成所述平坦层，所述平坦层上设置有所述第二过孔，以使所述导电胶层裸露；
在所述导电胶层以及所述平坦层上形成所述电极层，所述电极层与所述导电胶层通过所述第二过孔连接。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述采用第一构图工艺，在所述漏极背离所述基板的一侧形成钝化层的步骤，包括：
在所述漏极背离所述基板的一侧沉积钝化层材料；
在所述钝化层材料背离所述基板的一侧形成光刻胶；
采用第一掩膜版，对光刻胶进行曝光和显影处理；
对所述钝化层材料进行刻蚀，得到所述钝化层。


4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述采用第二构图工艺，在所述钝化层和裸露的漏极背离所述基板的一侧形成导电胶层的步骤，包括：
在所述钝化层和裸露的漏极背离所述基板的一侧涂布导电胶；
对所述导电胶进行前烘固化处理；
在完成前烘固化处理的导电胶背离所述基板的一侧形成光刻胶；
采用第二掩膜版，对光刻胶进行曝光和显影处理；
对所述导电胶进行刻蚀，得到所述导电胶层。


5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，对所述导电胶进行刻蚀，得到所述导电胶层的步骤，包括：
对所述导电胶进行湿法刻蚀，得到所述导电胶层。


6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述采用第三构图工艺，在所述钝化层和所述导电胶层背离所述基板的一侧形成所述平坦层...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄勇潮，王庆贺，程磊磊，何敏，成军，罗标，梁启斌，刘军，汪军，苏同上，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34