【技术实现步骤摘要】
消色差的光学超表面聚焦元件
本专利技术属于光学器件领域，尤其涉及一种消色差的光学超表面聚焦元件。
技术介绍
超表面是近些年来发展起来的一种新型二维光学材料，其基本单元由亚波长结构构成，具有超轻超薄的性质，理论上可以在亚波长尺度对光场进行相位、振幅等多种电磁调控，以此为基础制成的超表面器件可以轻松实现传统光学器件难以实现、甚至无法实现的特殊功能，因此超表面作为光学成像元件已经应用于内窥镜、虚拟现实等领域，以其在分辨率及小型化等方面的优势，深受市场用户的欢迎。而大多数超表面元件都对使用的波长有着严格的要求，通常一种设计方案只能在特定波长下使用，使其实用性大大降低。
技术实现思路
为了克服现有技术存在的缺陷和不足，本专利技术提出了一种消色差的光学超表面聚焦元件的设计方案，其基于几何相位原理和有限时域差分算法，根据介质材料设计稳定性和光转换效率高的微纳结构表面，进一步可以结合电子束蒸发和深紫外光刻技术进行加工，选取合适的工艺参数制备尺寸精度和光洁度高的超表面功能元件。其中，几何相位原理是指当一个绝热的物理...
【技术保护点】
1.一种消色差的光学超表面聚焦元件，其特征在于，包括：基底以及生成在基底上的多根长方体纳米柱；所述纳米柱分为第一尺寸、第二尺寸和第三尺寸，对应第一波长λ
【技术特征摘要】
1.一种消色差的光学超表面聚焦元件，其特征在于，包括：基底以及生成在基底上的多根长方体纳米柱；所述纳米柱分为第一尺寸、第二尺寸和第三尺寸，对应第一波长λ1、第二波长λ2和第三波长λ3；第一尺寸、第二尺寸和第三尺寸的所述纳米柱呈正六边形阵列间隔交替排布；所述纳米柱的长宽尺寸与入射光束的波长耦合，所述纳米柱的旋转角与入射光束的波长、焦距、附加相位调制值，以及所在的位置耦合，使元件对三种波长的平行入射光的焦距相同。
2.根据权利要求1所述的消色差的光学超表面聚焦元件，其特征在于：所述基底为二氧化硅基底，所述纳米柱为碳化硅纳米柱。
3.根据权利要求1所述的消色差的光学超表面聚焦元件，其特征在于：
所述纳米柱的旋转角由以下公式确定：
...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾天奇，郭子明，胡晨捷，罗祖德，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：福建;35
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。