本实用新型专利技术提供了一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，属于轴承加工技术领域。它解决了现有运输转送机构自动化程度低的问题。本轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架，转送机架的下端设有用于放置轴承的物料仓，转送机架上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件，输送构件下端位于物料仓内，输送构件的上端连接有用于轴承排出的排出机架，输送构件自下而上运动，排出机架的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件。本实用新型专利技术具有自动化程度高等优点。
【技术实现步骤摘要】
轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构
本技术属于轴承加工
，涉及一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构。
技术介绍
轴承是当代机械设备中一种重要零部件，它的主要功能是支撑机械旋转体，降低其运动过程中的摩擦系数，并保证其回转精度，轴承主要由轴承外圈、轴承内圈以及设置于外圈与内圈之间的转子组装形成，轴承在加工时，通常都是分步加工，然后在进行组装。对于轴承的加工，大多都是直接通过流水线来进行加工的、轴承外圈以及轴承内圈在经过抛光打磨之后，再输送到工作台上进行组装形成一个完整的轴承，在流水线的传递过程中，转送机构是必不可少的，在进行抛光打磨之前，转送机构将轴承外圈进行整合排列，然后将其输送到传输机构上进行下一步的加工，现有市场上的对于轴承外圈的整合排列大多都是通过震动器来进行的，排列整齐之后再将排列好的轴承转移到打磨机上进行抛光打磨。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述问题，提供一种自动化程度高、的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构。为达到上述目的，本技术采用了下列技术方案：一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架，所述转送机架的下端设有用于放置轴承的物料仓，其特征在于，所述的转送机架上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件，所述输送构件下端位于物料仓内，输送构件的上端连接有用于轴承排出的排出机架，所述的输送构件自下而上运动，所述排出机架的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的抛光组件包括抛光座以及设置于抛光座上的上抛光轴与下抛光轴，所述的上抛光轴与下抛光轴可相对抛光座进行周向的转动，且在上抛光轴与下抛光轴之间具有供轴承滑入的抛光间隙，所述抛光间隙一侧的端部与排出机架相连通接收从排出机架上滑下的轴承。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的输送构件包括上下两端架设在转送机架上的传送带以及用于驱动传动带转动的驱动电机，传送带上设置有若干沿传送带长度方向设置的拆卸板，每个所述拆卸板上均设有轴承架，轴承架与拆卸板可拆装连接。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的转送机架上还设有用于清洁轴承架的清洁构件，所述的清洁构件设置于转送机架的顶端部。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的清洁构件包括架设在转送机架上的转辊，转辊上设置有周向旋转分布的清洁毛刷，所述转辊的端部连接有用于驱动转辊转动的清洁驱动器。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的转辊与轴承架之间倾斜设置，且转辊自远离排出机架一侧向靠近排出机架一侧倾斜向上设置，与轴承架的倾斜方向相反。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述转送机架的两个侧端部均设置有挡板，挡板自转送机架的下端延伸至转送机架的上端，且在与排出机架相对应位置处开设有供轴承滑落的缺口，所述轴承架朝向排出机架一侧的端部与挡板配合，当轴承位于轴承架上时，靠近排出机架一侧的轴承抵靠在挡板上。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的排出机架的输入端架设挡板的缺口上，且在排出机架与挡板的接合处设置有用于调整排出机架进口处间隙大小的调整构件。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的调整构件包括调整支座，所述的调整支座上具有向下凹陷的内凹槽，所述的内凹槽中设有调整块，所述的调整支架上设置有横向穿设在内凹槽中用于锁定调整块的锁定件。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，所述的锁定件一端螺接在调整支座上，另一端抵靠找调整块上。在上述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构中，位于转送机架两侧的挡板之间设置有盖板，盖板与传送带之间形成有输送通道。与现有的技术相比，本技术的优点在于：1、本技术结合了输送构件与抛光组件，通过输送构件对轴承进行排列整理，然后再通过抛光组件对轴承进行抛光组件的运处理，提高了自动化程度，进而提升了加工效率。2、本技术的输送构件下端位于物料仓内，输送构件的上端连接有用于轴承排出的排出机架，输送构件自下向上运动时，轴承架会将物料仓内的轴承外圈带至轴承架上，轴承架随传送带向上运动到排出机架上时从排出机架侧部排出。2、本技术的传送带上设置有若干沿传送带长度方向设置的拆卸板，每个拆卸板上设有可拆装的轴承架，轴承架可相对拆卸板进行拆装，根据不同尺寸的轴承外圈尺寸可以对轴承架的斜度进行调整。3、本技术的转辊与轴承架之间倾斜设置，且转辊自远离排出机架一侧向靠近排出机架一侧倾斜向上设置，与轴承架的倾斜方向相反，转辊与轴承架具有不同的斜度，转辊在转动时带动转辊上的清洁毛刷清理轴承架，具有更好的清理效果。本技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。附图说明图1是本技术的整体结构示意图。图2是本技术中转送机架的整体结构示意图。图3是本技术中输送构件的结构示意图。图4是本技术中输送构件的俯视结构示意图。图5是本技术中调整构件的结构示意图。图中，1、转送机架；2、物料仓；3、输送构件；4、排出机架；5、轴承架；6、传送带；7、驱动电机；8、拆卸板；9、清洁构件；10、转辊；11、清洁毛刷；12、清洁驱动器；13、挡板；14、缺口；15、调整构件；16、调整支座；17、内凹槽；18、调整块；19、锁定件；20、盖板；21、输送通道；30、抛光组件；31、抛光座；32、上抛光轴；33、下抛光轴；34、抛光间隙。具体实施方式下面结合附图对本技术进行进一步说明。如图1至图3所示，一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架1，转送机架1的下端设有用于放置轴承的物料仓2，转送机架1上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件3，输送构件3下端位于物料仓2内，输送构件3的上端连接有用于轴承排出的排出机架4，输送构件3上设置有用于传递轴承的轴承架5，输送构件3自下而上运动，所述轴承架5倾斜设置，且自远离排出机架4一侧向靠近排出机架4一侧倾斜向下，排出机架4的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件30。在本实施例中，输送构件3下端位于物料仓2内，输送构件3的上端连接有用于轴承排出的排出机架4，输送构件3自下向上运动过程中，轴承架5会将物料仓2内的轴承外圈带至轴承架5上，轴承架5随传送带6向上运动到排出机架4上时从排出机架4侧部排出，相对于传统通过震动方式来进行转送，噪音更低，通过输送构件对轴承进行排列整理，然后再通过抛光组件对轴承进行抛光组件的运处理，提高了自动化程度，进而提升了加工效率。结合图1所示，抛光组件30包括抛光座31以及设置于抛光座上的上抛光轴32与下抛光轴33，上抛光轴与下抛光轴可相对抛光座进行周向的转动，且在上抛光轴与下抛光轴之间具有供轴承滑入的抛光间隙34，抛光间隙34一侧的端部与排出机架4相连通接收从排出机架4上滑下的轴承。轴承在进入到抛本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架(1)，所述转送机架(1)的下端设有用于放置轴承的物料仓(2)，其特征在于，所述的转送机架(1)上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件(3)，所述输送构件(3)下端位于物料仓(2)内，输送构件(3)的上端连接有用于轴承排出的排出机架(4)，所述的输送构件(3)自下而上运动，所述排出机架(4)的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件(30)。/n
【技术特征摘要】
1.一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架(1)，所述转送机架(1)的下端设有用于放置轴承的物料仓(2)，其特征在于，所述的转送机架(1)上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件(3)，所述输送构件(3)下端位于物料仓(2)内，输送构件(3)的上端连接有用于轴承排出的排出机架(4)，所述的输送构件(3)自下而上运动，所述排出机架(4)的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件(30)。
2.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的抛光组件(30)包括抛光座(31)以及设置于抛光座上的上抛光轴(32)与下抛光轴(33)，所述的上抛光轴(32)与下抛光轴(33)可相对抛光座进行周向的转动，且在上抛光轴与下抛光轴之间具有供轴承滑入的抛光间隙(34)，所述抛光间隙(34)一侧的端部与排出机架(4)相连通接收从排出机架(4)上滑下的轴承。
3.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的输送构件(3)包括上下两端架设在转送机架(1)上的传送带(6)以及用于驱动传动带转动的驱动电机(7)，传送带(6)上设置有若干沿传送带(6)长度方向设置的拆卸板(8)，每个所述拆卸板(8)上均设有轴承架(5)，轴承架(5)与拆卸板(8)可拆装连接。
4.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的转送机架(1)上还设有用于清洁轴承架(5)的清洁构件(9)，所述的清洁构件(9)设置于转送机架(1)的顶端部，所述的清洁构件(9)包括架设在转送机架(1)上的转辊(10)，转辊(10)上设置有周向旋转分布的清洁毛刷(11)，所述转辊(10)的端部连接有用于驱动转辊(10)转动的清洁驱动器(12)。
5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈飚，向志荣，
申请(专利权)人：台州市天豪轴承有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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