【技术实现步骤摘要】
一种扩散炉清洗装置
本技术涉及扩散炉清洗
,具体为一种扩散炉清洗装置。
技术介绍
扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散炉用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂,即将元素磷、硼扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。最新的低压磷扩散利用低压氛围可以得到更好的方块电阻均匀性和更大的生产批量,同时对环境的影响最小。氧化工艺是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应,生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧和湿氧,湿氧包括水汽氧化和氢氧合成两种。现有的扩散炉管清洗装置为整体浸泡式,在槽体滚轮上放置炉管,加药液没过炉管,开启旋转滚轮,转动炉管,待管壁干净后排尽槽内酸性溶液,开启水阀冲水,继续转动炉管;6、待水质达到13MΩ时,排尽槽内水,炉管晾干待装。该设备存在如下缺陷:浸泡式酸处理浪费化剂和水,并且会损伤炉管表面耐高温层,缩短炉管寿命。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种扩散炉清洗装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种扩散炉清洗装置,包括槽体本体,所述槽体本体上设有2个单独的同级清洗槽,所述槽体本体内部安装有旋转电机,所述旋转电机外接齿轮连接2根旋转轴,所述旋转轴上装有滚 ...
【技术保护点】
1.一种扩散炉清洗装置,包括槽体本体(1),其特征在于:所述槽体本体(1)上设有2个单独的同级清洗槽,所述槽体本体(1)内部安装有旋转电机(2),所述旋转电机(2)外接齿轮连接2根旋转轴(3),所述旋转轴(3)上装有滚轮(4),所述滚轮(4)上装有2根软质皮带,处理管道时与管道接触,在靠近旋转电机(2)侧,两根旋转轴的中间位置设有一根进水管(5),所述进水管(5)由机台底部引出,电磁阀控制进水开关,所述进水管口接PP材质软管,所述槽体本体(1)尾端设有排液口(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种扩散炉清洗装置,包括槽体本体(1),其特征在于:所述槽体本体(1)上设有2个单独的同级清洗槽,所述槽体本体(1)内部安装有旋转电机(2),所述旋转电机(2)外接齿轮连接2根旋转轴(3),所述旋转轴(3)上装有滚轮(4),所述滚轮(4)上装有2根软质皮带,处理管道时与管道接触,在靠近旋转电机(2)侧,两根旋转轴的中间位置设有一根进水管(5),所述进水管(5)由机台底部引出,电磁阀控制进水开关,所述进水管口接PP材质软管,所述槽体本体(1)尾端设有排液口(6)...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔文荣,
申请(专利权)人:江苏晟驰微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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