一种凸雕陶瓷及其上色制作方法技术

本发明专利技术涉及凸雕陶瓷上色技术领域，公开了一种凸雕陶瓷，包括陶瓷本体，其外表面形成有凸雕层；第一陶瓷釉层，喷涂在所述陶瓷本体及所述凸雕层的外表面；第二陶瓷釉层，喷涂在所述第一陶瓷釉层外表面。采用两次喷涂陶瓷釉，两次干燥和一次烧制，通过增加烧制次数，降低陶瓷坯内的水分，避免陶瓷高温烧制时发生开裂或者后期使用过程开裂。通过多次烧制的方式，慢慢固化陶瓷坯，定型效果好，后期使用稳定性好。工艺简单，成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种凸雕陶瓷及其上色制作方法
本专利技术涉及凸雕陶瓷制作
，具体为一种凸雕陶瓷及其上色制作方法。
技术介绍
凸雕陶瓷文化起源于唐朝，当时国力昌盛的唐朝影响世界，各国使节纷纷来朝拜，慢慢地建立起贸易往来。由于浮雕瓷器的特殊工艺宛如一幅活灵活现的画作展现在使用者面前，所以浮雕瓷器作为当时经典的精品礼品成为了国礼出使各国。在现代陶瓷生产工艺中，陶瓷产品越来越多样，其中凸雕陶瓷也逐渐应用在日常生活产品领域中，凸雕陶瓷在实际操作中为了突出立体感，会将陶瓷上的凸雕与陶瓷底色采用不同绘彩效果，一般的做法是将陶瓷上的凸雕用胶纸包好再上色，这一方法存在着相比普通陶瓷更加耗时耗力的缺点，且由于凸雕边角上色困难，无法保证产品上色均匀，后期使用稳定性不够，陶瓷容易开裂或者陶瓷釉容易脱落，需要人工进行再一次修补。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中的技术问题，从而提供一种凸雕陶瓷及其上色制作方法。为此，本专利技术的一个目的在于提供一种凸雕陶瓷，包括：陶瓷本体，其外表面形成有凸雕层；第一陶瓷釉层，喷涂在所述陶瓷本体及所述凸雕层的外表面；第二陶瓷釉层，喷涂在所述第一陶瓷釉层外表面。可选的，所述的凸雕陶瓷，所述凸雕层为凸雕图案。可选的，所述的凸雕陶瓷，所述第一陶瓷釉层的厚度小于所述第二陶瓷釉层。可选的，所述的凸雕陶瓷，还包括设置在所述第一陶瓷釉层上的用于使所述第一陶瓷釉层和所述第二陶瓷釉层结合固定的配合结构。可选的，所述的凸雕陶瓷，所述配合结构为朝向所述第二陶瓷釉层凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。本专利技术的另一个目的在于提供一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述凸雕陶瓷为上述任一项所述的凸雕陶瓷，包括以下步骤：S1、制作凸雕陶瓷：采用凸雕方式在陶瓷本体外表面进行绘制图案，得到凸雕陶瓷；S2、将制成的凸雕陶瓷表面进行打磨、抛光；S3、将打磨、抛光后的凸雕陶瓷表面进行清洗，之后放入烘箱内高温烘干；S4、在干燥后的凸雕陶瓷表面喷涂第一陶瓷釉层，再将喷涂后的凸雕陶瓷放入烘箱中预烘干；S5、在预烘干后的凸雕陶瓷的第一陶瓷釉层的外表面喷涂第二陶瓷釉层；S6、最后将凸雕陶瓷送入高温窑炉中高温烧制，冷却即完成对凸雕陶瓷的上色。可选的，所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述步骤S3中高温烘干温度为180-220℃，时间为20min-40min。可选的，所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述S4和S5步骤中的第一陶瓷釉层和第二陶瓷釉层的陶瓷釉组分按重量份数包括：长石20-30份、高岭土10-20份、石英5-15份、白云石4-10份、碳酸钠10-18份、釉果8-20份、氟硅酸铵4-10份、氧化铝3-9份、氢氧化钙5-15份、胡椒基丁醚3-9份、氢氧化钠2-6份、铝矾土4-12份、蛭石粉6-14份。可选的，所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，在步骤S4中，还包括在第一陶瓷釉层外表面形成配合结构。可选的，所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述步骤S6中高温烧制温度为800-1000℃，时间为1h-2h。本专利技术技术方案，具有如下优点：1.本专利技术的凸雕陶瓷，包括：陶瓷本体，其外表面形成有凸雕层；第一陶瓷釉层，喷涂在所述陶瓷本体及所述凸雕层的外表面；第二陶瓷釉层，喷涂在所述第一陶瓷釉层外表面。上述结构的凸雕陶瓷，通过两层陶瓷釉层的设置，喷涂后进行高温烘干，通过两次烧制，降低瓷坯水分，避免瓷坯在没有完全干燥时进行高温烧制时出现开裂的现象。此外，多次烧制，可以提高凸雕陶瓷后期使用稳定性。2.本专利技术的凸雕陶瓷，还包括设置在所述第一陶瓷釉层上的用于使所述第一陶瓷釉层和所述第二陶瓷釉层结合固定的配合结构。通过配合结构的设置，可以提高第一陶瓷釉层和第二陶瓷釉层的结合牢固度。避免后期使用时第二陶瓷釉层的脱落。3.本专利技术的凸雕陶瓷，所述配合结构为朝向所述第二陶瓷釉层凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。配合结构简单，利于成型，制作成本低。4.本专利技术的凸雕陶瓷的上色制作方法，采用两次喷涂陶瓷釉，两次干燥和一次烧制，通过增加烧制次数，降低陶瓷坯内的水分，避免陶瓷高温烧制时发生开裂或者后期使用过程开裂。通过多次烧制的方式，慢慢固化陶瓷坯，定型效果好，后期使用稳定性好。5.本专利技术的凸雕陶瓷的上色制作方法，高温烧制采用低于1000℃温度，避免陶瓷回缩，裂纹风险陡增。烧制温度由低至高，慢慢烧制，有利于陶瓷釉和陶瓷本体的稳定。6.本专利技术的凸雕陶瓷的上色制作方法，本专利技术的陶瓷釉的组分中釉果相较于现有技术中锂瓷石，有更低的熔融温度和较好的透明度。氧化铝由铝矾土(Al2O3·3H2O)和硬水铝石制备而成。加入陶瓷釉中，克服了现有技术中铝矾土稳定性较差的缺点，用于增加陶瓷釉中铝矾土的稳定性，阻止化学平衡向氧化铝方向发展。氧化铝熔点为2054℃，沸点为2980℃，陶瓷釉中氧化铝的存在，还可增加陶瓷釉耐高温性。氧化铝常做吸附剂，也能增加陶瓷釉在瓷坯上的吸附性。胡椒基丁醚加入陶瓷釉中，有助于陶瓷釉中有机物质的互溶，克服了现有技术，陶瓷釉中有机物偶尔没溶解的情况，有助于陶瓷釉的透明度和均匀度。蛭石粉其层间水分子经高温灼烧，体积增大18-25倍，有助于弥补现有技术陶瓷釉相对密度大、板结等缺点。加入蛭石粉后，其立体感、层次感等有比较明显的改观。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的凸雕陶瓷的结构示意图；图2为本专利技术的凸雕陶瓷的陶瓷釉层和配合结构的结构示意图；图3为本专利技术的凸雕陶瓷的上色制作方法的工艺流程图。附图标记说明：1-陶瓷本体；2-第一陶瓷釉层；3-第二陶瓷釉层；4-配合结构。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例1请参阅图1至图2，本专利技术提供的一种凸雕陶瓷，包括陶瓷本体1、凸雕层、陶瓷釉层和配合结构4。其中陶瓷本体1为内设有中空腔、具有开口的陶瓷本体，更具体的，包括瓷身和瓷颈，瓷身直径大于瓷颈，开口开设在瓷颈上，也即陶瓷本体1呈缩口状结构。陶瓷本体1外表面通过凸雕工艺形成有凸雕层(未示出)，具体的，凸雕层为绘制而成的凸雕图案，具体图案不做详细描述和限定，比如梅花、国画等。陶瓷釉层包括两层，分为第一陶瓷釉层2和第二陶瓷釉层3，第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种凸雕陶瓷，其特征在于，包括：/n陶瓷本体(1)，其外表面形成有凸雕层；/n第一陶瓷釉层(2)，喷涂在所述陶瓷本体(1)及所述凸雕层的外表面；/n第二陶瓷釉层(3)，喷涂在所述第一陶瓷釉层(2)外表面。/n

【技术特征摘要】
1.一种凸雕陶瓷，其特征在于，包括：
陶瓷本体(1)，其外表面形成有凸雕层；
第一陶瓷釉层(2)，喷涂在所述陶瓷本体(1)及所述凸雕层的外表面；
第二陶瓷釉层(3)，喷涂在所述第一陶瓷釉层(2)外表面。


2.根据权利要求1所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述凸雕层为凸雕图案。


3.根据权利要求1所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述第一陶瓷釉层(2)的厚度小于所述第二陶瓷釉层(3)。


4.根据权利要求1至3任一项所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，还包括设置在所述第一陶瓷釉层(2)上的用于使所述第一陶瓷釉层(2)和所述第二陶瓷釉层(3)结合固定的配合结构(4)。


5.根据权利要求4所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述配合结构(4)为朝向所述第二陶瓷釉层(3)凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层(3)凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。


6.一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述凸雕陶瓷为权利要求1-5任一项所述的凸雕陶瓷，其特征在于，包括以下步骤：
S1、制作凸雕陶瓷：采用凸雕方式在陶瓷本体外表面进行绘制图案，得到凸雕陶瓷；
S2、将制成的凸雕陶瓷表面进行打磨、抛光；
S3、将打磨、抛光后的凸雕陶瓷表面进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：文淑丽，杨陈，罗密，
申请(专利权)人：江西服装学院，
类型：发明
国别省市：江西;36