本发明专利技术涉及一种高温釉中彩的烧制工艺，其釉烧温度为1050℃‑1100℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为133‑153℃/min。所述烧制工艺包括如下步骤：制坯、上釉、素烧、贴花、釉烧。其采用电窑烧制。并且其通过调节散热孔和窑门以及烟筒来达到快速降温的目的。通过采用本发明专利技术的高温釉中彩的烧制工艺，使烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。
【技术实现步骤摘要】
一种高温釉中彩的烧制工艺
本专利技术涉及一种陶瓷烧制领域，特别涉及一种高温釉中彩的烧制工艺。
技术介绍
釉中彩是七十年代发展起来的一种新的瓷器装饰材料和技法。其颜料的熔剂成分不含铅或少含铅，按釉上彩方法施于器物釉面，通过1100～1260℃的高温，釉面软化熔融，使颜料渗入釉内，冷却后釉面封闭。细腻晶莹、滋润恍目，抗腐蚀、耐磨损，具有釉下彩的效果。但是现有的釉中彩的烧制过程存在许多缺陷和不足，烧成率很多都不足50％，釉面的光泽度和鲜艳度也欠佳，在烧制过程中还经常出现流釉的问题。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种高温釉中彩的烧制工艺。本专利技术的一种高温釉中彩的烧制工艺，其釉烧温度为1050℃-1100℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为133-153℃/min。其釉烧温度根据不同的花面，在1050℃-1100℃范围内进行相应调节。经过本专利技术试验发现降温速率对釉面的光泽度和鲜艳度影响很大。采用本专利技术的快速降温的方法，能极大提高釉面的光泽度和鲜艳度。优选所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、贴花、釉烧。优选所述釉烧温度为1080℃。优选所述釉烧温度为1100℃。优选所述釉烧时的降温速率为143℃/min。优选采用电窑烧制。因为电窑烧成的气氛为中性气氛，经本专利技术发现，天然气加热的气氛会影响釉面的光泽度。优选当釉烧温度为1100℃，其升温程序为：从室温—423℃，升温速率为250-270℃/h；423℃—698℃，升温速率为170-190℃/h；698℃—898℃，升温速率为120-140℃/h；898℃—1098℃，升温速率为190-210℃/h；1098℃—1100℃，保温10min。进一步优选其釉烧的升温程序为：从室温—423℃，升温速率为267℃/h；423℃—698℃，升温速率为183℃/h；698℃—898℃，升温速率为133℃/h；898℃—1098℃，升温速率为200℃/h；1098℃—1100℃，保温10min。优选釉烧时的快速降温可通过散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。有益效果通过本专利技术的烧制工艺，克服了现有烧制工艺的烧成率不高的缺陷，使烧成率从不足50％达到100％，快速降温解决了流釉的问题。烧成制品的釉面的光泽度和鲜艳度均提高。具体实施方式为便于理解本专利技术，本专利技术列举实施例如下。本领域技术人员应该明了，所述实施例仅仅用于帮助理解本专利技术，不应视为对本专利技术的具体限制。如无具体说明，本专利技术的各种原料均可以通过市售得到，或根据本领域的常规方法制备得到；本专利技术的生产工艺中所用的设备均可采用本领域中的公知设备，本专利技术没有特别说明的生产工艺均为本领域中公知的生产工艺，在此不再对具体的生产设备和工艺进行赘述。除非另有定义或说明，本文中所使用的所有专业与科学用语与本领域技术熟练入员所熟悉的意义相同。下面结合具体实施例对本专利技术做进一步说明。以下实施例中烧制采用电窑，电窑型号为HQ-3-3。实施例1本实施例的坯料的组成为：成分SiO2AL2O3K2OFe2O3Na2OTiO2CaOMgOP2O5I.L含量66.9221.294.130.250.950.090.070.380.015.51本实施例的釉料的组成为：成分SiO2AL2O3CaOK2OZnOBaONa2OFe2O3TiO2MgOI.L含量65.979.547.593.133.611.411.160.210.031.275.50本实施例的一种高温釉中彩的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、贴花、釉烧。其中釉烧温度为1100℃，釉烧的升温程序为：从室温—423℃，升温速率为267℃/h；423℃—698℃，升温速率为183℃/h；698℃—898℃，升温速率为133℃/h；898℃—1098℃，升温速率为200℃/h；1098℃—1100℃，保温10min。釉烧后降温时采取快速降温的方式降到室温，降温速率为143℃/min。釉烧和素烧时均采用电窑烧制。釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。烟筒的高度为16m，直径380mm。实施例2本实施例的一种高温釉中彩的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、贴花、釉烧。其中釉烧温度为1100℃，釉烧的升温程序为：从室温—423℃，升温速率为250℃/h；423℃—698℃，升温速率为190℃/h；698℃—898℃，升温速率为120℃/h；898℃—1098℃，升温速率为210℃/h；1098℃—1100℃，保温10min。釉烧后降温时采取快速降温的方式，降温速率为150℃/min。釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。釉烧和素烧时均采用电窑烧制。实施例3本实施例的一种高温釉中彩的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、贴花、釉烧。其中釉烧温度为1100℃，釉烧的升温程序为：从室温—423℃，升温速率为270℃/h；423℃—698℃，升温速率为170℃/h；698℃—898℃，升温速率为140℃/h；898℃—1098℃，升温速率为190℃/h；1098℃—1100℃，保温10min。釉烧降温时采取快速降温的方式，降温速率为135℃/min。釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。釉烧和素烧时均采用电窑烧制。实施例4本实施例的一种高温釉中彩的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、贴花、釉烧。其中釉烧温度为1080℃，釉烧的升温程序为：从室温—423℃，升温速率为270℃/h；423℃—698℃，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是其釉烧温度为1050℃-1100℃，釉烧时降温采取快速降温的方式。降温速率为133-153℃/min。/n
【技术特征摘要】
1.一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是其釉烧温度为1050℃-1100℃，釉烧时降温采取快速降温的方式。降温速率为133-153℃/min。
2.如权利要求1所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、贴花、釉烧。
3.如权利要求1所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是所述釉烧温度为1080℃。
4.如权利要求1所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是所述釉烧温度为1100℃。
5.如权利要求1所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是所述釉烧时降温时的降温速率为143℃/min。
6.如权利要求1所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是其采用电窑烧制。
7.如权利要求4所述的一种高温釉中彩的烧制工艺，其特征是其升温程序为...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄少晨，
申请(专利权)人：淄博汉青陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37
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