一种高温釉中金的烧制工艺制造技术

技术编号:25546320 阅读:164 留言:0更新日期:2020-09-08 18:44
本发明专利技术涉及一种高温釉中金的烧制工艺,其釉烧温度为1000℃‑‑1050℃,釉烧时降温采取快速降温的方式,降温速率为180‑‑200℃/min。所述烧制工艺包括如下步骤:制坯、上釉、素烧、描金和╱或印金、釉烧。其采用电窑烧制。并且其通过调节散热孔和窑门以及烟筒来达到快速降温的目的。通过采用本发明专利技术的高温釉中金烧制工艺,使烧成率从不足50%达到100%。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。

【技术实现步骤摘要】
一种高温釉中金的烧制工艺
本专利技术涉及一种陶瓷烧制领域,特别涉及一种高温釉中金的烧制工艺。
技术介绍
高温釉中金技术是通过高温让表层釉面变软,使金面浸入釉中,形成高温釉中金效果。所形成的金面不但光亮平滑,经久耐磨,且更抗腐蚀、抗氧化。高温釉中金技术,瓷器与人的日常相伴,将历久弥新。但是现有的高温釉中金的烧制过程存在许多缺陷和不足,烧成率很多都不足50%,釉面的光泽度和鲜艳度也欠佳,在烧制过程中还经常出现流釉的问题。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种高温釉中金的烧制工艺。本专利技术的一种高温釉中金的烧制工艺,其釉烧温度为1000℃-1050℃,釉烧时降温采取快速降温的方式,降温速率为180-200℃/min。经过本专利技术试验发现降温速率对釉面的光泽度和鲜艳度影响很大。采用本专利技术的快速降温的方法,能极大提高釉面的光泽度和鲜艳度。优选所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、描金或印金、釉烧。优选所述釉烧温度为1050℃或1000℃。优选所述釉烧时的降温速率为190本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是其釉烧温度为1000℃-1050℃,釉烧时降温采取快速降温的方式。降温速率为180-200℃/min。/n

【技术特征摘要】
1.一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是其釉烧温度为1000℃-1050℃,釉烧时降温采取快速降温的方式。降温速率为180-200℃/min。


2.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、描金或印金、釉烧。


3.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是所述釉烧温度为1050℃。


4.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是所述釉烧温度为1000℃。


5.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是所述釉烧时降温时的降温速率为190℃/min。


6.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺,其特征是其采用电窑烧制。


7.如权利要求3所述的一种高温釉中金的烧制...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄少晨
申请(专利权)人:淄博汉青陶瓷有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1