一种用于反应室的晶片传动装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制造设备技术领域，具体涉及一种用于反应室的晶片传动装置。包括均为内部中空的方形腔体结构的反应室与搬运室，二者之间通过闸阀连通，反应室内设有晶片支撑部件，搬运室内设有机械传送部件；晶片支撑部件包括内环基座和外环基座；内环基座主体为圆盘，圆盘下端面设有同心凸台，内环基座整体纵向横截面呈T型；外环基座呈圆环型，外环基座的内圈为台阶状，内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配，内环基座嵌设于外环基座内。内环基座下方设有内环支撑架，内环支撑架与升降机构相连；外环基座下方设有外环支撑架，外环支撑架与旋转机构相连。本实用新型专利技术操作简单，传送稳定性更好，掉片率更低，满足不同尺寸的晶片的传送需求。

【技术实现步骤摘要】
一种用于反应室的晶片传动装置
本技术涉及半导体制造设备
，尤其涉及外延生长设备的一种用于反应室的晶片传动装置。
技术介绍
外延生长装置主要通过晶片拾取机构从料盒中拾取晶片，将晶片搬运到反应腔中，放置在可旋转的基座上，反应气体在平行于晶片的方向上被引入至晶片上，对晶片表面进行外延生长。追求更大直径外延加工能力和更高质量的外延生长效果已成为国际上外延片生产的发展主流。目前使用伯努利棒的拾取装置，只适用于小直径的晶片，无法满足12寸及以上的晶片的需求。为避免在传送处理期间损坏晶片，根据晶片传送处理的特定应用或环境，提出了一种晶片传动技术方案，满足不同尺寸晶片的传送处理要求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，克服现有技术中的不足，提供一种用于反应室的晶片传动装置。为解决上述技术问题，本技术采用的解决方案是：提供一种用于反应室的晶片传动装置，包括反应室和搬运室；反应室与搬运室均为内部中空的方形腔体结构，二者之间通过闸阀连通，反应室内设有晶片支撑部件，搬运室内设有机械传送部件；晶片支撑部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，包括反应室和搬运室；所述反应室与搬运室均为内部中空的方形腔体结构，二者之间通过闸阀连通，反应室内设有晶片支撑部件，搬运室内设有机械传送部件；/n所述晶片支撑部件包括内环基座和外环基座；所述内环基座主体为圆盘，圆盘下端面设有同心凸台，内环基座整体纵向横截面呈T型；所述外环基座呈圆环型，所述外环基座的内圈为台阶状，内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配，所述内环基座嵌设于外环基座内；所述内环基座下方设有内环支撑架，内环支撑架与升降机构相连；所述外环基座下方设有外环支撑架，外环支撑架与旋转机构相连；所述内环基座、外环基座、内环支撑架和外环支撑架为同轴心放置...

【技术特征摘要】
1.一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，包括反应室和搬运室；所述反应室与搬运室均为内部中空的方形腔体结构，二者之间通过闸阀连通，反应室内设有晶片支撑部件，搬运室内设有机械传送部件；
所述晶片支撑部件包括内环基座和外环基座；所述内环基座主体为圆盘，圆盘下端面设有同心凸台，内环基座整体纵向横截面呈T型；所述外环基座呈圆环型，所述外环基座的内圈为台阶状，内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配，所述内环基座嵌设于外环基座内；所述内环基座下方设有内环支撑架，内环支撑架与升降机构相连；所述外环基座下方设有外环支撑架，外环支撑架与旋转机构相连；所述内环基座、外环基座、内环支撑架和外环支撑架为同轴心放置；
所述机械传送部件包括操作元件，所述操作元件呈U型，前端为缺口端，后端与设于搬运室内的传送臂相连。


2.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈文杰，朱亮，董医芳，祝广辉，汤承伟，俞城，麻鹏达，周航，章杰峰，
申请(专利权)人：浙江求是半导体设备有限公司，浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33