一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法技术

本发明专利技术公开了一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法，属于真空灭弧室技术领域，其包括瓷壳，所述瓷壳内设置有屏蔽筒，所述屏蔽筒的内壁镀覆有加强垫，所述屏蔽筒外壁的上方与压板的内壁固定连接，所述压板插接在限位槽内。该真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法，上方密封环向下移动的过程中挤压下方密封环，相互紧密贴合的密封环进一步提高密封的效果，并且将顶盖与端盖进行铸焊作业，即可实现对屏蔽筒的整体密封，通过密封垫、橡胶隔层、密封环和密封块之间的相互配合，将该真空灭弧室各个部件进行固定密封并且再通过铸焊的方式对其进行密封处理，进一步提高了对整体真空灭弧室密封的效果，十分适用。

【技术实现步骤摘要】
一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法
本专利技术属于真空灭弧室
，具体为一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法。
技术介绍
真空灭弧室，又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是，通过管内真空优良的绝缘性使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生，真空灭弧室中所用的屏蔽筒是真空灭弧室不可缺少的配套部件，屏蔽筒的作用是屏蔽体将系统的干扰源包围起来，防止干扰电磁场向外扩散，同时用屏蔽体将整个设备或系统包围起来，防止它们受到外界电磁场的影响。屏蔽筒固定方式采用现有的钎焊材料对屏蔽筒和瓷壳进行直接焊接，造成屏蔽筒与瓷壳的同轴度偏差过大，影响真空灭弧室内部电场的均匀分布，降低真空灭弧室密封的效果，且钎焊时蒸散的液态钎料会影响到真空灭弧室的绝缘性能。
技术实现思路
(一)解决的技术问题为了克服现有技术的上述缺陷，本专利技术提供了一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法，解决了屏蔽筒固定方式采用现有的钎焊材料对屏蔽筒和瓷壳进行直接焊接，造成屏蔽筒与瓷壳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，包括瓷壳(1)，其特征在于：所述瓷壳(1)内设置有屏蔽筒(2)，所述屏蔽筒(2)的内壁镀覆有加强垫(3)，所述屏蔽筒(2)外壁的上方与压板(4)的内壁固定连接，所述压板(4)插接在限位槽(5)内，所述限位槽(5)开设在限位环(6)的上表面，所述限位环(6)固定连接在瓷壳(1)的内壁，所述瓷壳(1)的内壁固定连接有螺纹筒(7)，所述螺纹筒(7)内螺纹连接有外螺纹(8)，所述外螺纹(8)设置在屏蔽筒(2)的外壁，所述瓷壳(1)的上表面螺纹连接有端盖(10)，所述端盖(10)的上表面开设有螺纹槽(15)，所述螺纹槽(15)内螺纹连接有顶盖(12)。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，包括瓷壳(1)，其特征在于：所述瓷壳(1)内设置有屏蔽筒(2)，所述屏蔽筒(2)的内壁镀覆有加强垫(3)，所述屏蔽筒(2)外壁的上方与压板(4)的内壁固定连接，所述压板(4)插接在限位槽(5)内，所述限位槽(5)开设在限位环(6)的上表面，所述限位环(6)固定连接在瓷壳(1)的内壁，所述瓷壳(1)的内壁固定连接有螺纹筒(7)，所述螺纹筒(7)内螺纹连接有外螺纹(8)，所述外螺纹(8)设置在屏蔽筒(2)的外壁，所述瓷壳(1)的上表面螺纹连接有端盖(10)，所述端盖(10)的上表面开设有螺纹槽(15)，所述螺纹槽(15)内螺纹连接有顶盖(12)。


2.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述端盖(10)的下表面与密封块(11)的上表面固定连接，所述密封块(11)卡接在瓷壳(1)上表面开设在斜槽内，所述密封块(11)设置为环状。


3.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述瓷壳(1)内壁的下方与橡胶隔层(9)的外壁固定连接，所述橡胶隔层(9)的内壁卡接在屏蔽筒(2)外壁开设的密封槽内。


4.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述压板(4)下表面设置的密封垫与限位环(6)的上表面搭接。


5.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述端盖(10)的上表面开设有凹槽(13)，所述凹槽(13)的内壁与顶盖(12)内壁的上表面均设置有密封环(14)，两个所述密封环(14)的相对面紧密贴合。


6....

【专利技术属性】
技术研发人员：周倜，王清华，
申请(专利权)人：湖北大禹汉光真空电器有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42