一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法，属于航空航天材料技术领域。所述膜层材料为五层复合结构，基体层为聚合物薄膜，中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层，表层为阻氧层；其中，连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO

【技术实现步骤摘要】
一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法
本专利技术属于航空航天材料
，公开了一种耐原子氧聚合物膜层材料，并涉及所述耐原子氧聚合物膜层材料的制备方法，即一种聚合物表面制备抗原子氧侵蚀涂层的方法，更具体地，提供一种聚酰亚胺表面制备抗原子氧侵蚀涂层的方法。
技术介绍
用于近地轨道(200～800km高度)飞行的航天器上的材料常常暴露在原子氧环境当中，将会受到流量为1×1013～1×1015atoms/(cm2·s)的氧原子的冲击，原子氧撞击航天器表面的能量在4.5eV左右。空间材料暴露在原子氧环境下，多数都会产生质损、厚度损失，引起热学、光学、机械、表面形貌等诸多参数的变化，结果导致材料性能的损伤原子氧与材料反应形成氧化物，它可能从表面材料中挥发出来，造成放气或可凝物的释出。例如，碳、锇受到原子氧作用时会“消失”，因为碳和金属锇具有较大的原子氧剥蚀速度，碳的氧化物和氧化锇极易挥发。银涂层将与原子氧相互作用生成氧化物并随即脱落，露出的新鲜表面则又将被原子氧剥蚀，结果造成较严重的质损。而活泼金属以及无机聚合物如硅与原子氧作用形成的氧化物附着在基底上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐原子氧聚合物膜层材料，其特征在于，所述膜层材料为五层复合结构，基体层为聚合物薄膜，中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层，表层为阻氧层；其中，/n所述连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO

【技术特征摘要】
1.一种耐原子氧聚合物膜层材料，其特征在于，所述膜层材料为五层复合结构，基体层为聚合物薄膜，中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层，表层为阻氧层；其中，
所述连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO2层；
所述阻氧层为利用电子束蒸发技术制备的氧化铝或氧化锆层；
所述活性金属层为利用磁过滤沉积的Mg、Al或Zn层。


2.根据权利要求1所述的一种耐原子氧聚合物膜层材料，其特征在于，所述连接层的沉积厚度为0.1～20nm；所述阻氧层的沉积厚度0.1～3μm；所述活性金属层的沉积厚度为0.1～1μm。


3.一种如权利要求1或2所述的耐原子氧聚合物膜层材料的制备方法，其特征在于，所述方法即为一种聚合物表面制备抗原子氧侵蚀涂层的方法，具体包括以下步骤：
I、对聚合物基体利用长条电极进行气体辉光放电清洗，随后对清洗后的基体进行氧离子束刻蚀，备用；
II、在步骤(I)处理后的聚合物基体表面上，利用射频磁控溅射沉积SiO2制备连接层；
III、在步骤(II)制备的连接层上，利用电子束蒸发技术沉积氧化铝或氧化锆制备阻氧层；
IV、在步骤(III)制备的阻氧层上，利用磁过滤沉积Mg、Al或Zn制备活性金属层；
V、在步骤(IV)制备的活性金属层上，利用电子束蒸发技术沉积氧化铝或氧化锆制...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖斌，欧阳潇，欧阳晓平，罗军，陈琳，庞盼，张旭，吴先映，英敏菊，
申请(专利权)人：北京师范大学，
类型：发明
国别省市：北京;11