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本发明公开了一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法，属于航空航天材料技术领域。所述膜层材料为五层复合结构，基体层为聚合物薄膜，中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层，表层为阻氧层；其中，连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO...
该专利属于北京师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京师范大学授权不得商用。

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