试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法技术

本发明专利技术的试样支承体包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和至少设置在第一表面的导电层。在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔。对第二表面和第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间不同的表面处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法
本专利技术涉及试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法。
技术介绍
一直以来，在生物体试样等试样的质量分析中，已知用于将试样离子化的试样支承体(例如参照专利文献1)。这样的试样支承体具有形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔的基板。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第6093492号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题在上述的质量分析中，检测离子化的试样(试样离子)，基于其检测结果实施试样的质量分析。在这样的质量分析中，希望提高信号强度(灵敏度)。于是，本专利技术的目的在于，提供能够提高试样离子的信号强度的试样支承体、该试样支承体的制造方法和使用该试样支承体的试样的离子化方法。用于解决课题的技术方案本专利技术的一个方面的试样支承体用于试样的离子化，其包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和至少设置于第一表面的导电层，在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔，在第二表面和第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。上述试样支承体具有形成有在第二表面和第三表面开口的多个贯通孔的基板。例如，在利用毛细管现象而测量对象的试样的成分进入了基板的多个贯通孔内的状态下，通过对基板的第一表面照射激光，该激光的能量经由导电层传递至试样的成分，试样的成分被离子化。此处，本专利技术的专利技术者们研究发现，通过尽量将试样的成分保留在贯通孔内，离子化扣的试样(试样离子)的信号强度增大。于是，上述试样支承体中，对导电层的第三表面和基板的第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。即，能够实现第二表面和第三表面的一侧的面(以下称为“第一面”)与第二表面和第三表面的另一侧的面(以下称为“第二面”)相比，对水的亲和性较高的状态。由此，能够使测量对象的试样的成分从对水的亲和性比较高的第一面很好地进入贯通孔内。进而，在对水的亲和性比较低的第二面，能够抑制进入了贯通孔内的试样的成分从贯通孔内流出。由此，根据上述试样支承体，能够容易地使试样的成分保留在贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。可以在第二表面设置有疏水性的涂层，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高。此时，利用设置在第二表面的疏水性的涂层，能够抑制试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口流出。由此，例如，在对试样支承体的第三表面滴下包含试样的溶液时，能够使试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口进入贯通孔内，并且能够利用设置于第二表面的疏水性的涂层使该试样的成分很好地保留在贯通孔内。由此，根据上述结构，在对试样支承体的第三表面滴下含有试样的溶液的测量方式(以下称为“滴下方式”。)中，能够提高试样离子的信号强度。特别是，在测量极低浓度的试样时，通过使试样的成分很好地保留在贯通孔内能够使试样的成分浓缩。结果能够容易且适宜地检测试样离子。可以对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第二表面侧的面相比，第三表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第三表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第三表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。此时，通过对第三表面和贯通孔的包含第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，能够促进试样的成分从贯通孔的第三表面侧的开口向贯通孔内流通。由此，在滴下方式中能够使试样的成分很好地进入贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。可以对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高，用于提高对水的亲和性的表面处理包括在第二表面和上述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和上述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。此时，通过对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，能够促进试样的成分从贯通孔的第二表面侧的开口向贯通孔内流通。由此，例如，在以试样支承体的第二表面与试样相对的方式将试样支承体配置在试样上的测量方式(以下称为“吸起方式”。)中，能够使试样的成分很好地进入贯通孔内，能够提高试样离子的信号强度。可以在第三表面设置有疏水性的涂层，使得与第三表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。此时，在吸起方式中，能够抑制利用毛细管现象在贯通孔内从第二表面侧移动到第三表面侧的试样的成分沿着第三表面移动到其它贯通孔上。由此，容易维持移动到第三表面侧的试样的原来的位置信息(构成试样的分子的二维分布信息)，能够提高图像质量分析的精度(分辨率)。基板可以通过对阀金属(valvemetal)或硅进行阳极氧化而形成。此时，利用通过阀金属或硅的阳极氧化而得到的基板，能够很好地实现基于毛细管现象而进行的试样的成分的移动。贯通孔的宽度可以为1nm～700nm。此时，能够很好地实现上述的基于毛细管现象而进行的试样的成分的移动。导电层的材料可以是铂或金。此时，能够容易且稳定地对导电层施加一定的电压。本专利技术的另一方面的试样支承体用于试样的离子化，其具有基板，该基板具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔，对第一表面和第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第一表面侧的面与第二表面侧的面之间不同的表面处理，表面处理是：包括在第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第一表面和贯通孔的包含第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第二表面侧的面相比，第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，包括在第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对第二表面和贯通孔的包含第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与第一表面侧的面相比，第二表面侧的面对水的亲和性较高。根据该试样支承体，能够省略导电层，并且能够得到与上述具有导电层的试样支承体同样的效果。亲水性的涂层可以是通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。此时，能够很好地实现能够促进试样的成分向贯通孔内的流通的亲水性的涂层。疏水性的涂层可以是通过金属的蒸镀而形成的层或由自组单分子膜形成的层。此时，能够很好地实现能够抑制试样的成分从贯通孔内的流出的疏水性的涂层。本专利技术的一个方面的试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法包括：第一工序，其准备具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置于第一表面的导电层，在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于试样的离子化的试样支承体，其特征在于：/n包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和/n至少设置于所述第一表面的导电层，/n在所述基板和所述导电层，形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔，/n在所述第二表面和所述第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180209 JP 2018-0218951.一种用于试样的离子化的试样支承体，其特征在于：
包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和
至少设置于所述第一表面的导电层，
在所述基板和所述导电层，形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔，
在所述第二表面和所述第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。


2.如权利要求1所述的试样支承体，其特征在于：
在所述第二表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。


3.如权利要求1或2所述的试样支承体，其特征在于：
对所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高，
所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第三表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第三表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。


4.如权利要求1所述的试样支承体，其特征在于：
对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高，
所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第二表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。


5.如权利要求1或4所述的试样支承体，其特征在于：
在所述第三表面设置有疏水性的涂层，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。


6.如权利要求1～5中任一项所述的试样支承体，其特征在于：
所述基板通过对阀金属或硅进行阳极氧化而形成。


7.如权利要求1～6中任一项所述的试样支承体，其特征在于：
所述贯通孔的宽度为1nm～700nm。


8.如权利要求1～7中任一项所述的试样支承体，其特征在于：
所述导电层的材料是铂或金。


9.一种试样支承体，用于试样的离子化，其特征在于：
具有基板，其具有导电性，形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔，
对所述第一表面和所述第二表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在所述第一表面侧的面与所述第二表面侧的面之间不同的表面处理，
所述表面处理是：
包括在所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第二表面侧的面相比，所述第一表面侧的面对水的亲和性较高，或者，
包括在所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理，其能够使得与所述第一表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。


10.如权利要求3、4或9所述的试样支承体，其特征在于：
所述亲水性的涂层是通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。


11.如权利要求2或5所述的试样支承体，其特征在于：
所述疏水性的涂层是通过金属的蒸镀而形成的层或由自组单分子膜形成的层。


12.一种试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法的特征在于：
包括：第一工序，准备具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板和至少设置于所述第一表面的导电层，在所述基板和所述导电层，形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔；和
第二工序，对所述第二表面和所述第三表面的至少一者，进行使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间不同的表面处理。


13.如权利要求12所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：
所述第二工序包括在所述第二表面设置疏水性的涂层的工序，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。


14.如权利要求12或13所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：
所述第二工序包括在所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与所述第二表面侧的面相比，所述第三表面侧的面对水的亲和性较高，
所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第三表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第三表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。


15.如权利要求12所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：
所述第二工序包括对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理的工序，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高，
所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第二表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。


16.如权利要求12或15所述的试样支承体的制造方法，其特征在于：
所述第二工序包括在所述第三表面设置疏水性的涂层的工序，使得与所述第三表面侧的面相比，所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。


17.一种试样支承体的制造方法，其制造用于试样的离子化的试样支承体，该试样支承体的制造方法的特征在于：
包括：第一工序，准备具有导电性、形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔的基板；和
第二工序，对所述基板的第一表面和所述基板的第二表面的至少一者，进行使对水的亲和性在所述第一表面侧的面与所述第二表面侧的面之间不同的表面处理，
所述表面处理是：
包括在所述第一表面和所述贯通孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：内藤康秀，大村孝幸，小谷政弘，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP