一种半导体设备制造技术

本实用新型专利技术提出一种半导体设备，包括：生长腔体；基座，设置在所述生长腔体内，所述基座允许放置基板；靶材，设置在所述生长腔体内；磁体，设置在所述靶材的相对的位置上；其中，所述基座连接一旋转机构，所述旋转机构带动所述基座旋转。本实用新型专利技术提出的半导体设备设计合理，能够提高镀膜的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备
本技术涉及半导体领域。特别涉及一种半导体设备。
技术介绍
在微电子产品行业，磁控溅射技术作为生产集成电路、液晶显示器、薄膜太阳能电池及LED等产品的重要手段之一，受到广大厂商的高度重视。所谓溅射是指荷能粒子(例如氩离子)轰击固体表面，引起表面各种粒子(如原子、分子或团束)从该物体表面逸出的现象。工艺中，磁控溅射过程可为：工艺腔室中的电子在电场作用下向基片运动，在飞向基片的过程中与氩原子碰撞，使氩原子电离得到带正电的氩离子和二次电子；其中，氩离子向具有负电势的靶材方向加速运动的过程中获得动量，轰击靶材使靶材发生溅射，以生成溅射粒子；二次电子在电场和外加磁铁产生的磁场的作用下，其运动轨迹近似于一条摆线，二次电子在沿其轨迹运动的过程中继续碰撞氩原子以电离得到新的氩离子和新的二次电子；再者，氩离子轰击靶材所生成溅射粒子中的中性靶材原子或分子迁移到硅片表面，并通过沉积的方式在硅片表面凝聚以形成薄膜，该薄膜具有和靶材基本相同的组份；且在由氩离子轰击靶材时所产生的尾气或其它杂质可由真空泵抽走。但是在上述工艺中，在实际应用中会存本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体设备，其特征在于，包括：/n生长腔体；/n基座，设置在所述生长腔体内，所述基座允许放置基板；/n靶材，设置在所述生长腔体内；/n磁体，设置在所述靶材的相对的位置上；/n其中，所述基座连接一旋转机构，所述旋转机构带动所述基座旋转。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体设备，其特征在于，包括：
生长腔体；
基座，设置在所述生长腔体内，所述基座允许放置基板；
靶材，设置在所述生长腔体内；
磁体，设置在所述靶材的相对的位置上；
其中，所述基座连接一旋转机构，所述旋转机构带动所述基座旋转。


2.根据权利要求1所述的半导体设备，其特征在于：所述旋转机构包括旋转电机及转动轴。


3.根据权利要求2所述的半导体设备，其特征在于：所述旋转电机连接所述转动轴的一端，所述转动轴的另一端连接所述基座。


4.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于：所述旋转机构还包括一控制单元，所述控制单元连接所述旋转电机。

【专利技术属性】
技术研发人员：林信南，游宗龙，刘美华，李方华，児玉晃，板垣克則，
申请(专利权)人：深圳市晶相技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44