掩膜板、显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域，其中，所述遮光区域中设置有遮光层，所述遮光层上设置有与所述斜坡形成区域对应的光衍射图形，所述光衍射图形用于在曝光时使光线衍射，以使所述光敏材料层在完成曝光和显影后，在所述斜坡形成区域形成坡度角小于或等于30°的斜坡面。本发明专利技术还提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。本发明专利技术可以使斜坡面的坡度角更佳平缓，有利于提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种掩膜板、显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
在有机电致(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示领域，对于一些膜层而言，其侧面的坡度角越小，越有利于提高产品的良率，例如，当像素界定层中用于蒸镀有机发光材料的像素开口的侧面的坡度角越小时，对有机发光材料均匀沉积越有利，从而提高像素开口中形成的发光层的均匀性。目前，可以通过调整工艺过程参数以使侧面的坡度角减小，但是，也仅能将侧面的坡度角减小至40°，若想将侧面的坡度角进一步减小，仅通过调整工艺过程参数则难以实现。因此，亟待一种更有效的方法将侧面的坡度角进一步减小。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种掩膜板、显示基板及其制备方法、显示装置。为了实现上述目的，本专利技术提供一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域，其特征在于，/n所述遮光区域中设置有遮光层，所述遮光层上设置有与所述斜坡形成区域对应的光衍射图形，所述光衍射图形用于在曝光时使光线衍射，以使所述光敏材料层在完成曝光和显影后，在所述斜坡形成区域形成坡度角小于或等于30°的斜坡面。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域，其特征在于，
所述遮光区域中设置有遮光层，所述遮光层上设置有与所述斜坡形成区域对应的光衍射图形，所述光衍射图形用于在曝光时使光线衍射，以使所述光敏材料层在完成曝光和显影后，在所述斜坡形成区域形成坡度角小于或等于30°的斜坡面。


2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述透光区域与显示基板的像素单元一一对应，所述光衍射图形包括至少一个狭缝，所述狭缝为环绕所述透光区域的环状结构。


3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述狭缝的宽度不大于所述狭缝与所述透光区域之间的间隔宽度。


4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述狭缝与所述透光区域之间的间隔宽度在0.6μm至1.8μm之间，所述狭缝的宽度在0.6μm至1.8μm之间。


5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述透光区域与显示基板的像素单元一一对应，所述光衍射图形包括多个间隔的透光图案，多个所述透光图案环绕所述透光区域设置，且与所述透光区域无间隔。


6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳斌，黄晓丽，孟庆阳，胡德莹，曾振助，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，绵阳京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11