【技术实现步骤摘要】
掩膜板
本公开涉及显示
,尤其涉及一种掩膜板。
技术介绍
在制备大尺寸显示面板时,一个膜层的图案化操作往往需要借助拼接曝光工艺。然而,通过拼接曝光工艺制备导电引线时,难以有效控制导电引线在重复曝光区域的宽度,这降低了显示面板的均一性。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种掩膜板,提高显示面板的均一性。为实现上述专利技术目的,本公开采用如下技术方案:根据本公开的一个方面,提供一种掩膜板,包括沿第一方向设置的第一图形区域和第二图形区域;所述第一图形区域包括第一拼接曝光区域;所述第二图形区域包括第二拼接曝光区域;所述第一拼接曝光区域沿第一向量平移后能够形成第一拼接辅助区域,所述第一拼接辅助区域与所述第二拼接曝光区域重合;所述掩膜板包括沿第二方向排列的多个遮光条,所述第二方向与所述第一方向垂直;任意一个所述遮光条包括对应设置的第一拼接遮光条和第二拼接遮光条;所述第一拼 ...
【技术保护点】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括沿第一方向设置的第一图形区域和第二图形区域;所述第一图形区域包括第一拼接曝光区域;所述第二图形区域包括第二拼接曝光区域;所述第一拼接曝光区域沿第一向量平移后能够形成第一拼接辅助区域,所述第一拼接辅助区域与所述第二拼接曝光区域重合;/n所述掩膜板包括沿第二方向排列的多个遮光条,所述第二方向与所述第一方向垂直;任意一个所述遮光条包括对应设置的第一拼接遮光条和第二拼接遮光条;所述第一拼接遮光条设于所述第一拼接曝光区域,并在所述第一方向上贯穿所述第一拼接曝光区域;所述第二拼接遮光条设于所述第二拼接曝光区域,并在所述第一方向上贯穿所述第二拼接曝光区域; ...
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括沿第一方向设置的第一图形区域和第二图形区域;所述第一图形区域包括第一拼接曝光区域;所述第二图形区域包括第二拼接曝光区域;所述第一拼接曝光区域沿第一向量平移后能够形成第一拼接辅助区域,所述第一拼接辅助区域与所述第二拼接曝光区域重合;
所述掩膜板包括沿第二方向排列的多个遮光条,所述第二方向与所述第一方向垂直;任意一个所述遮光条包括对应设置的第一拼接遮光条和第二拼接遮光条;所述第一拼接遮光条设于所述第一拼接曝光区域,并在所述第一方向上贯穿所述第一拼接曝光区域;所述第二拼接遮光条设于所述第二拼接曝光区域,并在所述第一方向上贯穿所述第二拼接曝光区域;
所述第一拼接遮光条和对应的所述第二拼接遮光条中,一个的宽度等于目标宽度,另一个的宽度等于第一辅助宽度,所述第一辅助宽度大于所述目标宽度;所述第一拼接遮光条的图案沿所述第一向量平移后能够形成第一辅助拼接图案;所述第一辅助拼接图案位于对应的所述第二拼接遮光条内,或者所述第一辅助拼接图案覆盖对应的所述第二拼接遮光条。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一辅助宽度等于所述目标宽度的1.2~2倍。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一图形区域还包括第一独立曝光区域,所述第一独立曝光区域沿所述第一方向与所述第一拼接曝光区域相邻设置;所述第二图形区域还包括第二独立曝光区域,所述第二独立曝光区域沿所述第一方向与所述第二拼接曝光区域相邻设置;所述第一独立曝光区域沿所述第一向量平移后能够形成第一独立辅助区域,所述第一独立辅助区域和所述第二独立曝光区域分别位于所述第二拼接曝光区域的两侧;
任意一个所述遮光条还包括与所述第一拼接遮光条、所述第二拼接遮光条相互对应设置的第一独立遮光条和第二独立遮光条;所述第一独立遮光条设于所述第一独立曝光区域并与对应的所述第一拼接遮光条连接,且在所述第一方向上贯穿所述第一独立曝光区域;所述第二独立遮光条设于所述第二独立曝光区域并与对应的所述第二拼接遮光条连接,且在所述第一方向上贯穿所述第二独立曝光区域;
所述第一独立遮光条和所述第二独立遮光条的宽度均等于所述目标宽度。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括第三图形区域,所述第三图形区域包括沿所述第一方向相邻设置的第三独立曝光区域和第三拼接曝光区域;所述第一图形区域还包括第四拼接曝光区域,所述第四拼接曝光区域和所述第一拼接曝光区域分别设置于所述第一独立曝光区域的两侧;所述第四拼接曝光区域沿第二向量平移后能够形成第二拼接辅助区域,所述第二拼接辅助区域与所述第三拼接曝光区域重合;所述第一独立曝光区域沿所述第二向量平移后能够形成第二独立辅助区域,所述第二独立辅助区域和所述第三独立曝光区域分别位于所述第三拼接曝光区域的两侧;
所述遮光条还包括与所述第一拼接遮光条、所述第二拼接遮光条、所述第一独立遮光条、所述第二独立遮光条相互对应设置的第三拼接遮光条、第四拼接遮光条和第三独立遮光条;所述第三独立遮光条设于所述第三独立曝光区域,并在所述第一方向上贯穿所述第三独立曝光区域;所述第三独立遮光条的宽度等于所述目标宽度;所述第三拼接遮光条设于所述第三拼接曝光区域并与对应的所述第三独立遮光条连接,且在所述第一方向上贯穿所述第三拼接曝光区域;所述第四拼接遮光条设于所述第四拼接曝光区域并与对应的所述第一独立遮光条连接,且在所述第一方向上贯穿所述第四拼接曝光区域;
所述第四拼接遮光条和对应的所述第三拼接遮光条中,一个的宽度等于目标宽度,另一个的宽度等于第二辅助宽度,所述第二辅助...
【专利技术属性】
技术研发人员:邹佳滨,尹晓峰,田春光,文娜,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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